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東京エレクトロン株式会社

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  2021年 出願公開件数ランキング    第33位 878件 上昇2020年:第43位 773件)

  2021年 特許取得件数ランキング    第45位 515件 上昇2020年:第54位 436件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
再表 2019-244853 細胞のゲノム異常の評価方法 2021年 7月 8日
再表 2020-3803 成膜方法、成膜システム、及び成膜装置 2021年 7月 8日
特開 2021-100777 基板処理装置、および基板処理方法 2021年 7月 8日
特開 2021-101459 成膜方法 2021年 7月 8日
再表 2019-225519 プラズマ処理装置 2021年 7月 1日
再表 2019-244782 基板処理装置、基板処理方法、及び記憶媒体 2021年 7月 1日
特開 2021-100044 プラズマ処理装置 2021年 7月 1日
特開 2021-100071 基板処理装置及び基板処理方法 2021年 7月 1日
特開 2021-100093 エッチング方法、基板処理装置、及び基板処理システム 2021年 7月 1日
再表 2019-235256 半導体装置の製造方法、成膜用組成物および成膜装置 2021年 6月24日
再表 2020-4047 基板洗浄方法、基板洗浄システムおよび記憶媒体 2021年 6月24日
再表 2020-4142 膜厚測定装置及び補正方法 2021年 6月24日
再表 2020-12959 基板処理方法および基板処理装置 2021年 6月24日
特開 2021-96934 プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 2021年 6月24日
特開 2021-96961 減圧乾燥装置および減圧乾燥方法 2021年 6月24日

882 件中 451-465 件を表示

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2019-244853 2020-3803 2021-100777 2021-101459 2019-225519 2019-244782 2021-100044 2021-100071 2021-100093 2019-235256 2020-4047 2020-4142 2020-12959 2021-96934 2021-96961

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