ホーム > 特許ランキング > 東京エレクトロン株式会社 > 2021年 > 出願公開一覧
※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2021年 出願公開件数ランキング 第33位 878件
(2020年:第43位 773件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第45位 515件
(2020年:第54位 436件)
(ランキング更新日:2025年2月14日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2022年 2023年 2024年 2025年
公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
再表 2019-244853 | 細胞のゲノム異常の評価方法 | 2021年 7月 8日 | |
再表 2020-3803 | 成膜方法、成膜システム、及び成膜装置 | 2021年 7月 8日 | |
特開 2021-100777 | 基板処理装置、および基板処理方法 | 2021年 7月 8日 | |
特開 2021-101459 | 成膜方法 | 2021年 7月 8日 | |
再表 2019-225519 | プラズマ処理装置 | 2021年 7月 1日 | |
再表 2019-244782 | 基板処理装置、基板処理方法、及び記憶媒体 | 2021年 7月 1日 | |
特開 2021-100044 | プラズマ処理装置 | 2021年 7月 1日 | |
特開 2021-100071 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2021年 7月 1日 | |
特開 2021-100093 | エッチング方法、基板処理装置、及び基板処理システム | 2021年 7月 1日 | |
再表 2019-235256 | 半導体装置の製造方法、成膜用組成物および成膜装置 | 2021年 6月24日 | |
再表 2020-4047 | 基板洗浄方法、基板洗浄システムおよび記憶媒体 | 2021年 6月24日 | |
再表 2020-4142 | 膜厚測定装置及び補正方法 | 2021年 6月24日 | |
再表 2020-12959 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2021年 6月24日 | |
特開 2021-96934 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2021年 6月24日 | |
特開 2021-96961 | 減圧乾燥装置および減圧乾燥方法 | 2021年 6月24日 |
882 件中 451-465 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
2019-244853 2020-3803 2021-100777 2021-101459 2019-225519 2019-244782 2021-100044 2021-100071 2021-100093 2019-235256 2020-4047 2020-4142 2020-12959 2021-96934 2021-96961
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。
2月17日(月) - 大阪 大阪市
(オンライン参加可)体験談から学ぶ知的財産権 その時どうする?~海外で商標権がバッティング?オープンファクトリーの知財リスク?~
2月18日(火) -
2月19日(水) - 東京 港区
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月20日(木) - 東京 港区
2月20日(木) -
2月20日(木) -
2月20日(木) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 大田
パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 -自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法- <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月21日(金) -
2月22日(土) - 東京 板橋区
2月17日(月) - 大阪 大阪市
(オンライン参加可)体験談から学ぶ知的財産権 その時どうする?~海外で商標権がバッティング?オープンファクトリーの知財リスク?~
〒460-0008 愛知県名古屋市中区栄一丁目23番29号 伏見ポイントビル3F 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国商標 鑑定 コンサルティング
オーブ国際特許事務所(東京都)-ソフトウェア・電気電子分野専門
東京都千代田区飯田橋3-3-11新生ビル5階 特許・実用新案 商標 外国特許 鑑定
東京都港区新橋6-20-4 新橋パインビル5階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 訴訟 鑑定 コンサルティング