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東京エレクトロン株式会社
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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第33位 878件
（
2020年：第43位 773件）
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第45位 515件
（2020年：第54位 436件）
（ランキング更新日：2025年1月31日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6846943 | 塗布装置、および塗布方法 | 2021年 3月24日 | |
| 特許 6846993 | 基板保持具及びこれを用いた基板処理装置 | 2021年 3月24日 | |
| 特許 6848636 | 基板周縁部のクリーニング装置、基板周縁部のクリーニング方法及び記憶媒体 | 2021年 3月24日 | |
| 特許 6849083 | 絶縁膜の成膜方法、基板処理装置及び基板処理システム | 2021年 3月24日 | |
| 特許 6842443 | プラズマ処理装置及びプラズマを生成する方法 | 2021年 3月17日 | |
| 特許 6842616 | 凹部フィーチャ内での膜のボトムアップ式付着のための方法 | 2021年 3月17日 | |
| 特許 6842828 | 処理システム及び処理プログラム | 2021年 3月17日 | |
| 特許 6843089 | 結露防止方法および処理装置 | 2021年 3月17日 | |
| 特許 6843173 | 基板処理装置、および基板処理方法 | 2021年 3月17日 | |
| 特許 6843606 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 | 2021年 3月17日 | |
| 特許 6844263 | 基板処理装置 | 2021年 3月17日 | |
| 特許 6839624 | 被処理体の処理装置、及び、処理装置の検査方法 | 2021年 3月10日 | |
| 特許 6840001 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2021年 3月10日 | |
| 特許 6840036 | 基板処理装置 | 2021年 3月10日 | |
| 特許 6840041 | エッチング方法 | 2021年 3月10日 |
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6846943 6846993 6848636 6849083 6842443 6842616 6842828 6843089 6843173 6843606 6844263 6839624 6840001 6840036 6840041
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