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東京エレクトロン株式会社
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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第33位 878件
（
2020年：第43位 773件）
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第45位 515件
（2020年：第54位 436件）
（ランキング更新日：2025年3月27日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6866255 | プラズマ処理装置 | 2021年 4月28日 | |
| 特許 6866631 | 光処理装置、塗布、現像装置、光処理方法及び記憶媒体 | 2021年 4月28日 | |
| 特許 6861084 | 基板処理方法、基板処理装置及び記録媒体 | 2021年 4月21日 | |
| 特許 6861235 | プラズマ処理装置用の部材、及び当該部材を備えるプラズマ処理装置 | 2021年 4月21日 | |
| 特許 6861479 | プラズマ成膜方法およびプラズマ成膜装置 | 2021年 4月21日 | |
| 特許 6861535 | 処理方法及びプラズマ処理装置 | 2021年 4月21日 | |
| 特許 6861566 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2021年 4月21日 | |
| 特許 6861570 | 基板処理装置 | 2021年 4月21日 | |
| 特許 6861579 | プラズマ処理装置、静電吸着方法および静電吸着プログラム | 2021年 4月21日 | |
| 特許 6861580 | 検査装置および検査システム | 2021年 4月21日 | |
| 特許 6861872 | 接合装置および接合システム | 2021年 4月21日 | |
| 特許 6862163 | 基板処理装置 | 2021年 4月21日 | |
| 特許 6862821 | 成膜装置、成膜方法及び断熱部材 | 2021年 4月21日 | |
| 特許 6862882 | 液処理装置及び液処理方法 | 2021年 4月21日 | |
| 特許 6862903 | 基板搬送装置、基板搬送方法及び記憶媒体 | 2021年 4月21日 |
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6866255 6866631 6861084 6861235 6861479 6861535 6861566 6861570 6861579 6861580 6861872 6862163 6862821 6862882 6862903
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