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東京エレクトロン株式会社
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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第33位 878件
（
2020年：第43位 773件）
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第45位 515件
（2020年：第54位 436件）
（ランキング更新日：2025年1月31日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6827500 | 表面処理による選択的堆積 | 2021年 2月10日 | |
| 特許 6827633 | 等方性シリコン及びシリコンゲルマニウムの調整可能な選択性を備えたエッチング | 2021年 2月10日 | |
| 特許 6828329 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 | 2021年 2月10日 | |
| 特許 6823392 | 絶縁膜を形成する方法 | 2021年 2月 3日 | |
| 特許 6823527 | エッチング方法 | 2021年 2月 3日 | |
| 特許 6823533 | チタンシリサイド領域を形成する方法 | 2021年 2月 3日 | |
| 特許 6823986 | 基板検査装置及び基板検査方法 | 2021年 2月 3日 | |
| 特許 6824069 | 基板処理装置 | 2021年 2月 3日 | |
| 特許 6824461 | 処理システム | 2021年 2月 3日 | |
| 特許 6824717 | ＳｉＣ膜の成膜方法 | 2021年 2月 3日 | |
| 特許 6824962 | 基板液処理装置及び基板液処理方法並びに基板液処理プログラムを記憶したコンピュータ読み取り可能な記憶媒体 | 2021年 2月 3日 | |
| 特許 6825398 | 基板搬送装置及び基板搬送方法 | 2021年 2月 3日 | |
| 特許 6819440 | プラズマ処理装置及び基板処理システム | 2021年 1月27日 | |
| 特許 6819968 | プラズマ処理装置 | 2021年 1月27日 | |
| 特許 6820189 | 接合装置、接合システム、接合方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | 2021年 1月27日 |
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6827500 6827633 6828329 6823392 6823527 6823533 6823986 6824069 6824461 6824717 6824962 6825398 6819440 6819968 6820189
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