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東京エレクトロン株式会社
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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第33位 878件
（
2020年：第43位 773件）
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第45位 515件
（2020年：第54位 436件）
（ランキング更新日：2025年9月12日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6840051 | タングステン膜上へシリコン酸化膜を形成する方法および装置 | 2021年 3月10日 | |
| 特許 6841188 | 塗布処理装置及び塗布液捕集部材 | 2021年 3月10日 | |
| 特許 6836912 | 基板処理装置、基板処理方法及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | 2021年 3月 3日 | |
| 特許 6836913 | 基板処理装置、基板処理方法、及び記憶媒体 | 2021年 3月 3日 | |
| 特許 6836939 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2021年 3月 3日 | |
| 特許 6836953 | 窒化シリコンから形成された第１領域を酸化シリコンから形成された第２領域に対して選択的にエッチングする方法 | 2021年 3月 3日 | |
| 特許 6836959 | プラズマ処理装置、処理システム、及び、多孔質膜をエッチングする方法 | 2021年 3月 3日 | |
| 特許 6836976 | プラズマ処理装置 | 2021年 3月 3日 | |
| 特許 6837274 | 半導体製造装置及び基板搬送方法 | 2021年 3月 3日 | |
| 特許 6837929 | 基板処理装置 | 2021年 3月 3日 | |
| 特許 6832130 | 成膜装置 | 2021年 2月24日 | |
| 特許 6832132 | 供給装置及び基板処理装置 | 2021年 2月24日 | |
| 特許 6832154 | パージ方法 | 2021年 2月24日 | |
| 特許 6832171 | プラズマ処理装置のチャンバ本体の内部のクリーニングを含むプラズマ処理方法 | 2021年 2月24日 | |
| 特許 6832207 | 静電容量測定用の測定器 | 2021年 2月24日 |
520 件中 421-435 件を表示
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6840051 6841188 6836912 6836913 6836939 6836953 6836959 6836976 6837274 6837929 6832130 6832132 6832154 6832171 6832207
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