ホーム > 特許ランキング > 東京エレクトロン株式会社 > 2021年 > 特許一覧
東京エレクトロン株式会社
※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2021年 出願公開件数ランキング 第33位 878件
（
2020年：第43位 773件）
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第45位 515件
（2020年：第54位 436件）
（ランキング更新日：2025年1月31日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2022年 2023年 2024年 2025年
東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6840051 | タングステン膜上へシリコン酸化膜を形成する方法および装置 | 2021年 3月10日 | |
| 特許 6841188 | 塗布処理装置及び塗布液捕集部材 | 2021年 3月10日 | |
| 特許 6836912 | 基板処理装置、基板処理方法及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | 2021年 3月 3日 | |
| 特許 6836913 | 基板処理装置、基板処理方法、及び記憶媒体 | 2021年 3月 3日 | |
| 特許 6836939 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2021年 3月 3日 | |
| 特許 6836953 | 窒化シリコンから形成された第１領域を酸化シリコンから形成された第２領域に対して選択的にエッチングする方法 | 2021年 3月 3日 | |
| 特許 6836959 | プラズマ処理装置、処理システム、及び、多孔質膜をエッチングする方法 | 2021年 3月 3日 | |
| 特許 6836976 | プラズマ処理装置 | 2021年 3月 3日 | |
| 特許 6837274 | 半導体製造装置及び基板搬送方法 | 2021年 3月 3日 | |
| 特許 6837929 | 基板処理装置 | 2021年 3月 3日 | |
| 特許 6832130 | 成膜装置 | 2021年 2月24日 | |
| 特許 6832132 | 供給装置及び基板処理装置 | 2021年 2月24日 | |
| 特許 6832154 | パージ方法 | 2021年 2月24日 | |
| 特許 6832171 | プラズマ処理装置のチャンバ本体の内部のクリーニングを含むプラズマ処理方法 | 2021年 2月24日 | |
| 特許 6832207 | 静電容量測定用の測定器 | 2021年 2月24日 |
520 件中 421-435 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
6840051 6841188 6836912 6836913 6836939 6836953 6836959 6836976 6837274 6837929 6832130 6832132 6832154 6832171 6832207
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。
特許ランキング
2月4日(火) - 東京 港区
2月4日(火) - 神奈川 川崎市
2月4日(火) -
2月4日(火) -
2月5日(水) - 東京 港区
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
特許事務所紹介 IP Force 特許事務所紹介
東京都港区新橋6-20-4 新橋パインビル5階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 訴訟 鑑定 コンサルティング
群馬県前橋市北代田町６４５－５ 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
659-0068 兵庫県芦屋市業平町４－１ イム・エメロードビル５０３ 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
