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東京エレクトロン株式会社
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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第33位 878件
（
2020年：第43位 773件）
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第45位 515件
（2020年：第54位 436件）
（ランキング更新日：2025年1月31日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6850636 | プラズマ処理装置 | 2021年 3月31日 | |
| 特許 6850645 | プラズマ処理装置 | 2021年 3月31日 | |
| 特許 6850701 | 処理液供給装置、塗布処理装置及び処理液供給装置の供給管の洗浄方法 | 2021年 3月31日 | |
| 特許 6851173 | 成膜装置および成膜方法 | 2021年 3月31日 | |
| 特許 6851188 | プラズマ処理装置及びシャワーヘッド | 2021年 3月31日 | |
| 特許 6851217 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 | 2021年 3月31日 | |
| 特許 6851270 | 静電吸着方法 | 2021年 3月31日 | |
| 特許 6851288 | 基板処理装置及び基板搬送方法 | 2021年 3月31日 | |
| 特許 6851515 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2021年 3月31日 | |
| 特許 6852084 | めっき処理方法、めっき処理装置及び記憶媒体 | 2021年 3月31日 | |
| 特許 6846238 | 液滴吐出装置、液滴吐出方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | 2021年 3月24日 | |
| 特許 6846384 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理装置の高周波電源を制御する方法 | 2021年 3月24日 | |
| 特許 6846387 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 | 2021年 3月24日 | |
| 特許 6846776 | プラズマ処理装置 | 2021年 3月24日 | |
| 特許 6846941 | 塗布装置、および塗布方法 | 2021年 3月24日 |
520 件中 391-405 件を表示
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6850636 6850645 6850701 6851173 6851188 6851217 6851270 6851288 6851515 6852084 6846238 6846384 6846387 6846776 6846941
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