ホーム > 特許ランキング > 東京エレクトロン株式会社 > 2021年 > 特許一覧
東京エレクトロン株式会社
※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2021年 出願公開件数ランキング 第33位 878件
（
2020年：第43位 773件）
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第45位 515件
（2020年：第54位 436件）
（ランキング更新日：2025年1月31日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2022年 2023年 2024年 2025年
東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6820206 | 被加工物を処理する方法 | 2021年 1月27日 | |
| 特許 6820350 | 塗布処理方法、コンピュータ記憶媒体及び塗布処理装置 | 2021年 1月27日 | |
| 特許 6820730 | エッチング方法及びプラズマ処理装置 | 2021年 1月27日 | |
| 特許 6820736 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2021年 1月27日 | |
| 特許 6820766 | ガス導入機構及び熱処理装置 | 2021年 1月27日 | |
| 特許 6820767 | 周縁塗布装置及び周縁塗布方法 | 2021年 1月27日 | |
| 特許 6820783 | 基板処理装置 | 2021年 1月27日 | |
| 特許 6820793 | 基板処理装置、排気管のコーティング方法及び基板処理方法 | 2021年 1月27日 | |
| 特許 6822051 | 成膜装置及び成膜方法 | 2021年 1月27日 | |
| 特許 6814377 | ビア対グリッドのパターニングにおけるオーバレイエラーを減少する方法 | 2021年 1月20日 | |
| 特許 6814693 | マイクロ波出力装置及びプラズマ処理装置 | 2021年 1月20日 | |
| 特許 6815158 | 酸化チタン膜の成膜方法およびハードマスクの形成方法 | 2021年 1月20日 | |
| 特許 6815251 | 検査システム、ウエハマップ表示器、ウエハマップ表示方法、およびコンピュータプログラム | 2021年 1月20日 | |
| 特許 6815542 | 基板処理装置 | 2021年 1月20日 | |
| 特許 6815799 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2021年 1月20日 |
520 件中 466-480 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
6820206 6820350 6820730 6820736 6820766 6820767 6820783 6820793 6822051 6814377 6814693 6815158 6815251 6815542 6815799
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。
特許ランキング
2月4日(火) - 東京 港区
2月4日(火) - 神奈川 川崎市
2月4日(火) -
2月4日(火) -
2月5日(水) - 東京 港区
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
2月13日(木) - 岐阜 大垣市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月13日(木) - 神奈川 綾瀬市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月14日(金) - 東京 大田
＜エンジニア(技術者)および研究開発担当(R&D部門)向け＞ 基礎から学ぶ／自分で行うIPランドスケープ®の活用・実践 ＜東京会場受講（対面）／Zoomオンライン受講 選択可＞ ＜見逃し視聴選択可＞
2月14日(金) - 東京 千代田区
