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東京エレクトロン株式会社
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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第33位 878件
（
2020年：第43位 773件）
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第45位 515件
（2020年：第54位 436件）
（ランキング更新日：2025年1月31日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6815828 | めっき処理方法、めっき処理装置及び記憶媒体 | 2021年 1月20日 | |
| 特許 6816249 | 基板収納処理装置、基板収納処理方法、及び記録媒体 | 2021年 1月20日 | |
| 特許 6816634 | 成膜装置 | 2021年 1月20日 | |
| 特許 6817168 | 被処理体を処理する方法 | 2021年 1月20日 | |
| 特許 6817692 | プラズマ処理方法 | 2021年 1月20日 | |
| 特許 6817745 | 基板処理装置、リフトピンの高さ位置検知方法、リフトピンの高さ位置調節方法、及び、リフトピンの異常検出方法 | 2021年 1月20日 | |
| 特許 6817757 | 基板処理装置及び基板移送方法 | 2021年 1月20日 | |
| 特許 6817883 | 成膜方法 | 2021年 1月20日 | |
| 特許 6817889 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2021年 1月20日 | |
| 特許 6817911 | ウエハボート支持部、熱処理装置及び熱処理装置のクリーニング方法 | 2021年 1月20日 | |
| 特許 6811059 | 基板処理装置 | 2021年 1月13日 | |
| 特許 6811097 | 基板処理装置 | 2021年 1月13日 | |
| 特許 6811144 | プラズマ処理装置の静電チャックを運用する方法 | 2021年 1月13日 | |
| 特許 6811146 | ガス供給系を検査する方法 | 2021年 1月13日 | |
| 特許 6811147 | ガス供給系を検査する方法 | 2021年 1月13日 |
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6815828 6816249 6816634 6817168 6817692 6817745 6817757 6817883 6817889 6817911 6811059 6811097 6811144 6811146 6811147
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