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東京エレクトロン株式会社
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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第33位 878件
（
2020年：第43位 773件）
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第45位 515件
（2020年：第54位 436件）
（ランキング更新日：2025年1月31日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6807792 | プラズマ生成方法及びこれを用いたプラズマ処理方法、並びにプラズマ処理装置 | 2021年 1月 6日 | |
| 特許 6808423 | 基板処理装置および処理液供給方法 | 2021年 1月 6日 | |
| 特許 6808519 | 基板洗浄装置 | 2021年 1月 6日 | |
| 特許 6808960 | 処理液供給装置 | 2021年 1月 6日 | |
| 特許 6809188 | 光照射装置 | 2021年 1月 6日 | |
| 特許 6809273 | 液処理方法、基板処理装置、及び記憶媒体 | 2021年 1月 6日 | |
| 特許 6809304 | 成膜装置 | 2021年 1月 6日 | |
| 特許 6809315 | 半導体装置の製造方法及び真空処理装置 | 2021年 1月 6日 | |
| 特許 6809392 | 成膜方法、成膜装置及び記憶媒体 | 2021年 1月 6日 | |
| 特許 6809843 | パターン形成方法 | 2021年 1月 6日 |
520 件中 511-520 件を表示
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6807792 6808423 6808519 6808960 6809188 6809273 6809304 6809315 6809392 6809843
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＜エンジニア(技術者)および研究開発担当(R&D部門)向け＞ 基礎から学ぶ／自分で行うIPランドスケープ®の活用・実践 ＜東京会場受講（対面）／Zoomオンライン受講 選択可＞ ＜見逃し視聴選択可＞
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