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東京エレクトロン株式会社
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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第25位 842件
（
2021年：第33位 878件）
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第38位 690件
（2021年：第45位 515件）
（ランキング更新日：2025年8月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7193729 | 基板処理方法及び基板処理装置 | 2022年12月21日 | |
| 特許 7193731 | エッチング方法及びエッチング装置 | 2022年12月21日 | |
| 特許 7193990 | 完全自己整合性ビアを形成するための選択的膜付着の方法 | 2022年12月21日 | |
| 特許 7192375 | 塗布、現像装置及び塗布、現像方法。 | 2022年12月20日 | |
| 特許 7192588 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2022年12月20日 | |
| 特許 7193428 | エッチング方法及び基板処理装置 | 2022年12月20日 | |
| 特許 7190875 | ポリシリコン膜の形成方法及び成膜装置 | 2022年12月16日 | |
| 特許 7190880 | 半導体膜の形成方法及び成膜装置 | 2022年12月16日 | |
| 特許 7190888 | 配管加熱装置及び基板処理装置 | 2022年12月16日 | |
| 特許 7190892 | 基板処理装置および処理液濃縮方法 | 2022年12月16日 | |
| 特許 7190912 | 基板処理装置 | 2022年12月16日 | |
| 特許 7190915 | 基板処理装置の洗浄方法、および基板処理装置 | 2022年12月16日 | |
| 特許 7190938 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 | 2022年12月16日 | |
| 特許 7190940 | 基板処理方法及び基板処理装置 | 2022年12月16日 | |
| 特許 7190948 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 | 2022年12月16日 |
693 件中 16-30 件を表示
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7193729 7193731 7193990 7192375 7192588 7193428 7190875 7190880 7190888 7190892 7190912 7190915 7190938 7190940 7190948
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