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東京エレクトロン株式会社
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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第25位 842件
（
2021年：第33位 878件）
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第38位 690件
（2021年：第45位 515件）
（ランキング更新日：2025年8月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7186855 | 半導体装置の製造方法 | 2022年12月 9日 | |
| 特許 7186032 | 成膜装置及び成膜方法 | 2022年12月 8日 | |
| 特許 7186060 | 検査装置及び検査方法 | 2022年12月 8日 | |
| 特許 7186095 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 | 2022年12月 8日 | |
| 特許 7186096 | 熱板の冷却方法及び加熱処理装置 | 2022年12月 8日 | |
| 特許 7186114 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2022年12月 8日 | |
| 特許 7183635 | 基板搬送機構、基板処理装置及び基板搬送方法 | 2022年12月 6日 | |
| 特許 7184254 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2022年12月 6日 | |
| 特許 7184303 | シャワープレート、プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2022年12月 6日 | |
| 特許 7182908 | 有機ＥＬパネル、および有機ＥＬパネルの製造方法 | 2022年12月 5日 | |
| 特許 7182916 | プラズマ処理装置 | 2022年12月 5日 | |
| 特許 7182928 | 伸縮装置 | 2022年12月 5日 | |
| 特許 7182970 | 埋め込み方法及び処理システム | 2022年12月 5日 | |
| 特許 7182988 | 原料ガス供給装置、成膜装置及び原料ガス供給方法 | 2022年12月 5日 | |
| 特許 7183090 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 | 2022年12月 5日 |
693 件中 46-60 件を表示
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7186855 7186032 7186060 7186095 7186096 7186114 7183635 7184254 7184303 7182908 7182916 7182928 7182970 7182988 7183090
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