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東京エレクトロン株式会社
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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第25位 842件
（
2021年：第33位 878件）
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第38位 690件
（2021年：第45位 515件）
（ランキング更新日：2025年2月7日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7175209 | 成膜方法 | 2022年11月18日 | |
| 特許 7175210 | 排気装置、処理システム及び処理方法 | 2022年11月18日 | |
| 特許 7175224 | 基板処理方法及び基板処理装置 | 2022年11月18日 | |
| 特許 7175237 | 酸化物の原子層エッチングの方法 | 2022年11月18日 | |
| 特許 7175238 | 電界センサ、表面波プラズマ源、および表面波プラズマ処理装置 | 2022年11月18日 | |
| 特許 7175239 | 制御方法、プラズマ処理装置、プログラム及び記憶媒体 | 2022年11月18日 | |
| 特許 7175310 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2022年11月18日 | |
| 特許 7175331 | 基板処理方法、および基板処理装置 | 2022年11月18日 | |
| 特許 7175423 | 基板処理方法、及び基板処理装置 | 2022年11月18日 | |
| 特許 7174180 | シリコン含有膜のエッチング方法、コンピュータ記憶媒体、及びシリコン含有膜のエッチング装置 | 2022年11月17日 | |
| 特許 7174634 | 膜をエッチングする方法 | 2022年11月17日 | |
| 特許 7174687 | プラズマ処理装置及びエッチング方法 | 2022年11月17日 | |
| 特許 7170422 | 処理装置 | 2022年11月14日 | |
| 特許 7170438 | 基板処理装置及び判定方法 | 2022年11月14日 | |
| 特許 7170449 | 載置台機構、処理装置及び載置台機構の動作方法 | 2022年11月14日 |
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7175209 7175210 7175224 7175237 7175238 7175239 7175310 7175331 7175423 7174180 7174634 7174687 7170422 7170438 7170449
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＜エンジニア(技術者)および研究開発担当(R&D部門)向け＞ 基礎から学ぶ／自分で行うIPランドスケープ®の活用・実践 ＜東京会場受講（対面）／Zoomオンライン受講 選択可＞ ＜見逃し視聴選択可＞
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