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東京エレクトロン株式会社
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■ 2023年 特許取得件数ランキング 第32位 762件
（
2022年：第38位 690件）
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7402399 | 統合的な半導体処理モジュールを組み込んだ自己認識及び補正異種プラットフォーム及びその使用方法 | 2023年12月21日 | |
| 特許 7402401 | モノリシック集積型３次元ＣＭＯＳロジック及びメモリを製造するためのアーキテクチャ設計及びプロセス | 2023年12月21日 | |
| 特許 7402655 | 基板処理装置 | 2023年12月21日 | |
| 特許 7402658 | 基板収容ユニット及び基板搬送装置における真空搬送ユニットのメンテナンス方法 | 2023年12月21日 | |
| 特許 7402698 | 基板洗浄装置及び基板洗浄方法 | 2023年12月21日 | |
| 特許 7402715 | ウエハを処理する方法 | 2023年12月21日 | |
| 特許 7403015 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2023年12月21日 | |
| 特許 7401266 | 基板載置台、及び、基板処理装置 | 2023年12月19日 | |
| 特許 7401284 | 基板処理装置 | 2023年12月19日 | |
| 特許 7401313 | 処理方法及びプラズマ処理装置 | 2023年12月19日 | |
| 特許 7398886 | 流量制御器、ガス供給系及び流量制御方法 | 2023年12月15日 | |
| 特許 7398909 | 静電吸着方法及びプラズマ処理装置 | 2023年12月15日 | |
| 特許 7398915 | 基板処理方法、半導体デバイスの製造方法、及び、プラズマ処理装置 | 2023年12月15日 | |
| 特許 7398930 | 検査装置システム | 2023年12月15日 | |
| 特許 7398935 | 載置台、及び、検査装置 | 2023年12月15日 |
764 件中 16-30 件を表示
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7402399 7402401 7402655 7402658 7402698 7402715 7403015 7401266 7401284 7401313 7398886 7398909 7398915 7398930 7398935
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