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東京エレクトロン株式会社
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（
2022年：第25位 842件）
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第32位 762件
（
2022年：第38位 690件）
（ランキング更新日：2025年8月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7398969 | 基板処理方法、基板処理装置および記憶媒体 | 2023年12月15日 | |
| 特許 7398988 | スパッタ装置 | 2023年12月15日 | |
| 特許 7399012 | 基板処理システム、基板処理方法、および制御装置 | 2023年12月15日 | |
| 特許 7399014 | 清掃装置及び半導体製造システム | 2023年12月15日 | |
| 特許 7399035 | ティーチング方法、搬送システム及びプログラム | 2023年12月15日 | |
| 特許 7399258 | めっき処理装置 | 2023年12月15日 | |
| 特許 7398242 | 基板処理方法及び基板処理システム | 2023年12月14日 | |
| 特許 7398306 | ガス検査方法、基板処理方法及び基板処理システム | 2023年12月14日 | |
| 特許 7398554 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2023年12月14日 | |
| 特許 7397247 | プラズマ処理のための制御のシステム及び方法 | 2023年12月13日 | |
| 特許 7396370 | 直動機構及びパーティクルの飛散抑制方法 | 2023年12月12日 | |
| 特許 7395094 | プラットフォーム、及び統合的エンドツーエンド自己整合マルチパターニングプロセスの操作方法 | 2023年12月11日 | |
| 特許 7395099 | 垂直入射現場プロセス監視センサ | 2023年12月11日 | |
| 特許 7395645 | プラズマ処理装置 | 2023年12月11日 | |
| 特許 7394554 | 基板処理システム | 2023年12月 8日 |
764 件中 31-45 件を表示
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7398969 7398988 7399012 7399014 7399035 7399258 7398242 7398306 7398554 7397247 7396370 7395094 7395099 7395645 7394554
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