東京エレクトロン株式会社

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　■　2023年出願公開件数ランキング　　　第31位　722件（2022年：第25位　842件）

　■　2023年特許取得件数ランキング　　　第32位　762件（2022年：第38位　690件）

（ランキング更新日：2025年4月15日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 7394556	載置台及び基板処理装置	2023年12月 8日
特許 7394563	基板処理装置の洗浄方法及び基板処理システム	2023年12月 8日
特許 7394601	プラズマ処理装置及び測定方法	2023年12月 8日
特許 7394632	アレーアンテナ及びプラズマ処理装置	2023年12月 8日
特許 7394638	研削装置、及び研削方法	2023年12月 8日
特許 7394661	基板処理装置	2023年12月 8日
特許 7394665	基板処理方法及び基板処理装置	2023年12月 8日
特許 7394668	温度制御方法およびプラズマ処理装置	2023年12月 8日
特許 7394676	基板処理方法及び基板処理装置	2023年12月 8日
特許 7394694	プラズマ処理装置	2023年12月 8日
特許 7394711	測定器及びシースの厚さを求める方法	2023年12月 8日
特許 7394869	エッチング方法およびエッチング装置	2023年12月 8日
特許 7393986	載置台及び検査装置	2023年12月 7日
特許 7392740	塗布膜形成装置、及び塗布膜形成方法	2023年12月 6日
特許 7393143	液処理装置および流量検出部の校正方法	2023年12月 6日

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7394556 7394563 7394601 7394632 7394638 7394661 7394665 7394668 7394676 7394694 7394711 7394869 7393986 7392740 7393143

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