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東京エレクトロン株式会社
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（
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7390217 | 基板処理装置および導電性配管劣化度合い判定方法 | 2023年12月 1日 | |
| 特許 7390219 | エッジリングの保持方法、プラズマ処理装置、及び基板処理システム | 2023年12月 1日 | |
| 特許 7390386 | 処理液ノズルおよび洗浄装置 | 2023年12月 1日 | |
| 特許 7386683 | プラズマ処理装置及び電極消耗量測定方法 | 2023年11月27日 | |
| 特許 7386732 | 成膜方法 | 2023年11月27日 | |
| 特許 7386738 | 基板搬送方法および基板処理装置 | 2023年11月27日 | |
| 特許 7386075 | 基板処理方法及び基板処理システム | 2023年11月24日 | |
| 特許 7386077 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2023年11月24日 | |
| 特許 7386093 | プラズマ処理装置及び整合方法 | 2023年11月24日 | |
| 特許 7383554 | 基板処理方法及び基板処理装置 | 2023年11月20日 | |
| 特許 7382761 | 処理装置および成膜方法 | 2023年11月17日 | |
| 特許 7382836 | 基板処理装置及び回転駆動方法 | 2023年11月17日 | |
| 特許 7382848 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2023年11月17日 | |
| 特許 7382888 | 検査装置、及び、検査装置の制御方法 | 2023年11月17日 | |
| 特許 7382893 | 原料供給装置及び成膜装置 | 2023年11月17日 |
764 件中 76-90 件を表示
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7390217 7390219 7390386 7386683 7386732 7386738 7386075 7386077 7386093 7383554 7382761 7382836 7382848 7382888 7382893
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