東京エレクトロン株式会社

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　■　2023年出願公開件数ランキング　　　第31位　722件（2022年：第25位　842件）

　■　2023年特許取得件数ランキング　　　第32位　762件（2022年：第38位　690件）

（ランキング更新日：2025年4月15日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 7390217	基板処理装置および導電性配管劣化度合い判定方法	2023年12月 1日
特許 7390219	エッジリングの保持方法、プラズマ処理装置、及び基板処理システム	2023年12月 1日
特許 7390386	処理液ノズルおよび洗浄装置	2023年12月 1日
特許 7386683	プラズマ処理装置及び電極消耗量測定方法	2023年11月27日
特許 7386732	成膜方法	2023年11月27日
特許 7386738	基板搬送方法および基板処理装置	2023年11月27日
特許 7386075	基板処理方法及び基板処理システム	2023年11月24日
特許 7386077	基板処理装置及び基板処理方法	2023年11月24日
特許 7386093	プラズマ処理装置及び整合方法	2023年11月24日
特許 7383554	基板処理方法及び基板処理装置	2023年11月20日
特許 7382761	処理装置および成膜方法	2023年11月17日
特許 7382836	基板処理装置及び回転駆動方法	2023年11月17日
特許 7382848	基板処理方法および基板処理装置	2023年11月17日
特許 7382888	検査装置、及び、検査装置の制御方法	2023年11月17日
特許 7382893	原料供給装置及び成膜装置	2023年11月17日

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7390217 7390219 7390386 7386683 7386732 7386738 7386075 7386077 7386093 7383554 7382761 7382836 7382848 7382888 7382893

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