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東京エレクトロン株式会社
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（
2024年：第27位 725件）
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第23位 821件
（
2024年：第25位 802件）
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7761537 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2025年10月28日 | |
| 特許 7760389 | プラズマ処理装置 | 2025年10月27日 | |
| 特許 7760397 | 基板処理装置 | 2025年10月27日 | |
| 特許 7760485 | プラズマ処理装置及び静電チャックの製造方法 | 2025年10月27日 | |
| 特許 7760689 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2025年10月27日 | |
| 特許 7759543 | 高Ｋ金属ゲート（ＨＫＭＧ）膜スタックの選択的成膜を介した閾値電圧の調整方法 | 2025年10月24日 | |
| 特許 7758441 | 成膜方法および成膜装置 | 2025年10月22日 | |
| 特許 7758443 | 基板処理装置、および動作状態監視方法 | 2025年10月22日 | |
| 特許 7758445 | 基板処理装置 | 2025年10月22日 | |
| 特許 7758446 | 基板処理装置、および基板処理方法 | 2025年10月22日 | |
| 特許 7758447 | 成膜装置 | 2025年10月22日 | |
| 特許 7758448 | 異常放電判定方法、異常放電判定システム及び基板処理装置 | 2025年10月22日 | |
| 特許 7758449 | 基板処理システム、制御装置および基板搬送処理方法 | 2025年10月22日 | |
| 特許 7756520 | 成膜方法、半導体装置の製造方法、および成膜装置 | 2025年10月20日 | |
| 特許 7756761 | 基板処理システム | 2025年10月20日 |
830 件中 121-135 件を表示
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7761537 7760389 7760397 7760485 7760689 7759543 7758441 7758443 7758445 7758446 7758447 7758448 7758449 7756520 7756761
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