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東京エレクトロン株式会社
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■ 2025年 出願公開件数ランキング 第35位 629件
（
2024年：第27位 725件）
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第23位 821件
（
2024年：第25位 802件）
（ランキング更新日：2026年5月1日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7768647 | 予測装置、検査システム、予測方法及び予測プログラム | 2025年11月12日 | |
| 特許 7768648 | 検査装置、および検査方法 | 2025年11月12日 | |
| 特許 7768649 | 成膜方法及び処理装置 | 2025年11月12日 | |
| 特許 7768651 | 基板処理装置 | 2025年11月12日 | |
| 特許 7768652 | 基板処理方法及び基板処理装置 | 2025年11月12日 | |
| 特許 7768656 | 温度センサ及びプラズマ処理装置 | 2025年11月12日 | |
| 特許 7768914 | プラズマ処理装置、静電チャック及びプラズマ処理方法 | 2025年11月12日 | |
| 特許 7767024 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2025年11月11日 | |
| 特許 7767472 | 液処理方法、吐出調整方法及び液処理装置 | 2025年11月11日 | |
| 特許 7766480 | 剥離システムおよび剥離方法 | 2025年11月10日 | |
| 特許 7766526 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2025年11月10日 | |
| 特許 7766561 | 成膜位置ズレ補正方法および成膜システム | 2025年11月10日 | |
| 特許 7766699 | レジストパターンを形成する方法、半導体装置を製造する方法、基板処理装置、及び記憶媒体 | 2025年11月10日 | |
| 特許 7766720 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2025年11月10日 | |
| 特許 7766765 | プラズマ処理装置 | 2025年11月10日 |
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7768647 7768648 7768649 7768651 7768652 7768656 7768914 7767024 7767472 7766480 7766526 7766561 7766699 7766720 7766765
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