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東京エレクトロン株式会社
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（
2024年：第27位 725件）
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第22位 749件
（
2024年：第25位 802件）
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7664775 | プラズマ処理装置及びライナアセンブリ | 2025年 4月18日 | |
| 特許 7664776 | プラズマ処理装置 | 2025年 4月18日 | |
| 特許 7664783 | プラズマ処理装置、プラズマ処理装置で使用する上部電極アセンブリ、上部電極アセンブリの製造方法、及び、上部電極アセンブリの再生方法 | 2025年 4月18日 | |
| 特許 7664785 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2025年 4月18日 | |
| 特許 7664869 | モデルベース制御方法、モデルベース制御システム、およびプログラム | 2025年 4月18日 | |
| 特許 7665058 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2025年 4月18日 | |
| 特許 7664085 | エッチング方法およびエッチング装置 | 2025年 4月17日 | |
| 特許 7664088 | 基板処理方法及び基板処理装置 | 2025年 4月17日 | |
| 特許 7664139 | エッチング方法及びプラズマ処理装置 | 2025年 4月17日 | |
| 特許 7664141 | 基板処理装置、及び基板処理方法 | 2025年 4月17日 | |
| 特許 7663367 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2025年 4月16日 | |
| 特許 7661794 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2025年 4月15日 | |
| 特許 7662061 | 塗布膜形成装置、塗布膜形成方法及び記憶媒体 | 2025年 4月15日 | |
| 特許 7662211 | 液体分配及びカバレージ制御のためのシステム及び方法 | 2025年 4月15日 | |
| 特許 7662229 | 同軸透過型整列結像システム | 2025年 4月15日 |
757 件中 511-525 件を表示
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7664775 7664776 7664783 7664785 7664869 7665058 7664085 7664088 7664139 7664141 7663367 7661794 7662061 7662211 7662229
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