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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 5794988 | 局所的なプラズマ閉じ込め及び圧力制御の構成、並びにその方法 | 2015年10月14日 | |
特許 5789598 | 粘弾性洗浄材料を使用して基板上の粒子を除去するための方法 | 2015年10月 7日 | |
特許 5789614 | めっき処理中の基板表面をウェットに維持するプロセス | 2015年10月 7日 | |
特許 5792069 | チャック上でウエハのセンタリングを行なう方法およびシステム | 2015年10月 7日 | |
特許 5792174 | 一体化閉じ込めリング装置 | 2015年10月 7日 | |
特許 5788388 | プラズマ処理システム内でプラズマ閉じ込めを操作するための装置およびその方法 | 2015年 9月30日 | |
特許 5779598 | 高スループットのための基板ロードおよびアンロードメカニズム | 2015年 9月16日 | |
特許 5780935 | 半導体ウェーハをメッキする装置及び方法 | 2015年 9月16日 | |
特許 5781064 | 検出回路装置及び電流路の断絶を特定するための方法 | 2015年 9月16日 | |
特許 5774488 | ルテニウムの無電解析出のためのメッキ溶液 | 2015年 9月 9日 | |
特許 5774582 | 半導体ウエハ上の液体メニスカスの物理的閉じ込めのための方法および装置 | 2015年 9月 9日 | |
特許 5766230 | プラズマ処理リアクタ | 2015年 8月19日 | |
特許 5762475 | 基板の洗浄溶液 | 2015年 8月12日 | |
特許 5763076 | ベベルエッチング用の流体送給を促進する装置及び方法 | 2015年 8月12日 | |
特許 5759177 | プラズマ処理装置、半導体基板を処理する方法、および軸直角変位ベローズユニット | 2015年 8月 5日 |
69 件中 16-30 件を表示
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5794988 5789598 5789614 5792069 5792174 5788388 5779598 5780935 5781064 5774488 5774582 5766230 5762475 5763076 5759177
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12月1日(日) -
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