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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第539位 62件
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2014年: 0件)
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第376位 69件
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2014年: 0件)
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5662340 | 複合型ウエハ領域圧力制御およびプラズマ閉じ込めアセンブリ、プラズマ処理システムとその製造方法 | 2015年 1月28日 | |
| 特許 5662341 | プラズマ処理システムにおけるプラズマ閉じ込め構造、プラズマ処理システムとその製造方法 | 2015年 1月28日 | |
| 特許 5662435 | 損傷を与えない高効率な粒子除去洗浄 | 2015年 1月28日 | |
| 特許 5662451 | 閉じ込めリングの配置を制御する直接駆動装置およびその方法 | 2015年 1月28日 | |
| 特許 5662504 | 基板の位置決めオフセットの補正方法 | 2015年 1月28日 | |
| 特許 5656626 | 半導体材料処理装置用の低粒子性能を有するシャワーヘッド電極及びシャワーヘッド電極アセンブリ | 2015年 1月21日 | |
| 特許 5647603 | 加工済みフィーチャの断層像をつくる方法および1または複数の加工済みフィーチャの画像を生成する方法 | 2015年 1月 7日 | |
| 特許 5647614 | 二相汚染物質除去媒体の組成及び適用 | 2015年 1月 7日 | |
| 特許 5650547 | カムロック電極クランプ | 2015年 1月 7日 |
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5662340 5662341 5662435 5662451 5662504 5656626 5647603 5647614 5650547
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