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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第539位 62件
(2014年: 0件)
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第376位 69件
(2014年: 0件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5726928 | プラズマ処理システムにおける副生成物堆積減少方法並びに構造 | 2015年 6月 3日 | |
特許 5709344 | 高速ガス切換能力を有するガス分配システム | 2015年 4月30日 | |
特許 5709863 | プラズマ放電の検出、絶縁および防止のためのシステムおよび方法 | 2015年 4月30日 | |
特許 5709912 | プラズマ処理システムにおけるクリーニングまたはコンディショニングプロセスのエンドポイント決定方法及び装置 | 2015年 4月30日 | |
特許 5710267 | シリコン構造体の製造及びプロファイル制御を伴うシリコンディープエッチング | 2015年 4月30日 | |
特許 5710489 | フォトレジストを除去するための方法および装置 | 2015年 4月30日 | |
特許 5693573 | 最適なエンドポイント・アルゴリズムを構築する方法 | 2015年 4月 1日 | |
特許 5693596 | ハロゲン除去のための方法及び装置 | 2015年 4月 1日 | |
特許 5679967 | 複合波形周波数マッチング装置 | 2015年 3月 4日 | |
特許 5680539 | マイクロ電子トポグラフィ製造中のフィーチャ崩壊を防ぐための方法およびシステム | 2015年 3月 4日 | |
特許 5680595 | コンピュータ読み取り可能なマスクシュリンク制御プロセッサ | 2015年 3月 4日 | |
特許 5676880 | コバルト合金の無電解堆積 | 2015年 2月25日 | |
特許 5661034 | 多要素電極を再生するプロセス | 2015年 1月28日 | |
特許 5661113 | ウエハバイアス電位を測定するための方法および装置 | 2015年 1月28日 | |
特許 5661622 | プラズマ処理チャンバで用いるための真空ギャップを備えたプラズマ対向プローブ装置 | 2015年 1月28日 |
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5726928 5709344 5709863 5709912 5710267 5710489 5693573 5693596 5679967 5680539 5680595 5676880 5661034 5661113 5661622
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