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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第146位 259件
(2022年:第198位 187件)
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第292位 112件
(2022年:第512位 53件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2023-82177 | シャワーヘッド傾斜を動的に調整するためのアクチュエータ | 2023年 6月13日 | |
特表 2023-524651 | 基板支持アセンブリのフローティングPCB設計 | 2023年 6月13日 | |
特表 2023-524809 | コバルト、ニッケル、および、それらの合金の電気メッキ | 2023年 6月13日 | |
特表 2023-524488 | 薄型基板ハンドリングにおける亀裂防止のための組合せ型コンタクトフィンガ | 2023年 6月12日 | |
特表 2023-524516 | 基板処理システムにおけるシャワーヘッドのグルーピングフィーチャ | 2023年 6月12日 | |
特表 2023-524253 | ハードマスクの選択性改善のための不活性ガス注入 | 2023年 6月 9日 | |
特表 2023-523921 | 分流レスガス投与 | 2023年 6月 8日 | |
特表 2023-523945 | 化学物質送達システム用のヒーター設計ソリューション | 2023年 6月 8日 | |
特表 2023-523946 | ウエハエッジにおける材料特性を維持するためのリップシールエッジエクスクルージョン処理 | 2023年 6月 8日 | |
特表 2023-524023 | ウエハのベベル/縁部上の堆積を制御するためのシャワーヘッド設計 | 2023年 6月 8日 | |
特表 2023-523677 | 高アスペクト比の3D NANDエッチングのための側壁のノッチ低減 | 2023年 6月 7日 | |
特開 2023-78436 | プラズマ処理チャンバのための電極 | 2023年 6月 6日 | |
特開 2023-76496 | 半導体処理ツールにおけるRF電流測定 | 2023年 6月 1日 | |
特表 2023-522614 | 効果的な磁気電力伝送のためのRFシールド構造を有する変圧器型アイソレータ | 2023年 5月31日 | |
特表 2023-522349 | 強化された閉ループガスベースの熱交換 | 2023年 5月30日 |
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2023-82177 2023-524651 2023-524809 2023-524488 2023-524516 2023-524253 2023-523921 2023-523945 2023-523946 2023-524023 2023-523677 2023-78436 2023-76496 2023-522614 2023-522349
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6月20日(金) - 東京 千代田区
6月20日(金) -
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