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■ 2026年 出願公開件数ランキング 第194位 158件
(
2025年:第127位 267件)
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第178位 139件
(
2025年:第136位 217件)
(ランキング更新日:2026年10月30日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7857345 | 径方向エッチング均一性の能動制御 | 2026年 5月12日 | |
| 特許 7855530 | 半導体処理ツール用の角度付ガス分配通路を伴うシャワーヘッドフェースプレート | 2026年 5月 8日 | |
| 特許 7854393 | 基板処理ツール用の直線配置 | 2026年 5月 1日 | |
| 特許 7854461 | 誘電体における高アスペクト比フィーチャのプラズマエッチング化学物質 | 2026年 5月 1日 | |
| 特許 7854490 | プラズマ処理副生成物を管理するための構成要素および処理 | 2026年 5月 1日 | |
| 特許 7853923 | インフィーチャウェットエッチ速度比低減 | 2026年 4月30日 | |
| 特許 7853971 | センサマッピングおよびトリガされるデータロギングを含む、健全性に基づいてモニタリング、評価、および応答するための基板処理システムツール | 2026年 4月30日 | |
| 特許 7854087 | 金属含有レジストのリソグラフィ性能を向上させるためのベーキング方法 | 2026年 4月30日 | |
| 特許 7851939 | 前処理基板サンプルと後処理基板サンプルとの突合せ | 2026年 4月27日 | |
| 特許 7852072 | 金属含有フォトレジストのためのオールインワン乾式現像 | 2026年 4月27日 | |
| 特許 7848380 | 同調回路における周波数ベースのインピーダンス調整 | 2026年 4月20日 | |
| 特許 7847684 | 堆積及びウェハー滑りを防止するためのスピンドルアームのパージ | 2026年 4月17日 | |
| 特許 7846200 | 半導体ウエハ製造のためのマッチレスプラズマ源 | 2026年 4月14日 | |
| 特許 7846265 | 高温プロセスのための軸方向に冷却される金属シャワーヘッド | 2026年 4月14日 | |
| 特許 7842759 | 低周波RF発生器および関連する静電チャック | 2026年 4月 8日 |
139 件中 76-90 件を表示
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7857345 7855530 7854393 7854461 7854490 7853923 7853971 7854087 7851939 7852072 7848380 7847684 7846200 7846265 7842759
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