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ラム リサーチ コーポレーション

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特許 7471478 小さい角発散でピークイオンエネルギ増強を達成するためのシステムおよび方法 2024年 4月19日
特許 7470101 寿命が延長された閉じ込めリング 2024年 4月17日
特許 7466686 基板処理システムにおける中間リング腐食補償 2024年 4月12日
特許 7461923 電子励起原子層エッチング 2024年 4月 4日
特許 7461965 プラズマ系反応器のための冷却 2024年 4月 4日
特許 7461333 高アスペクト比の誘電体エッチングを達成するための3つ以上の状態 2024年 4月 3日
特許 7460727 パターニング用途のための原子層エッチング、反応性前駆体、及びエネルギ源 2024年 4月 2日
特許 7457756 ウエハエッジにおける方位角方向の厚さの均一性を向上させるためのポケット内ウエハのセンタリング 2024年 3月28日
特許 7456951 基板処理システムにおける基板支持体の動的温度制御 2024年 3月27日
特許 7455182 静電気的にクランプされたエッジリング 2024年 3月25日
特許 7454504 基板処理中の基板温度の決定および制御 2024年 3月22日
特許 7454509 基板処理システムのモデルベースの制御 2024年 3月22日
特許 7454600 移動可能エッジリングおよびガス注入調節によるウエハ上CD均一性の制御 2024年 3月22日
特許 7453958 チャンバからSnO2膜を洗浄するための方法 2024年 3月21日
特許 7453149 セラミックベースプレートを備えるマルチプレート静電チャック 2024年 3月19日

135 件中 91-105 件を表示

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7471478 7470101 7466686 7461923 7461965 7461333 7460727 7457756 7456951 7455182 7454504 7454509 7454600 7453958 7453149

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