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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第188位 174件 (2023年:第146位 259件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第219位 137件 (2023年:第292位 112件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7515647 | 半導体処理ツールにおけるRF電流測定 | 2024年 7月12日 | |
特許 7515661 | 半導体RFプラズマ処理のためのパルス内のRFパルス | 2024年 7月12日 | |
特許 7514913 | エッジリングポケットを洗浄するためのシステムおよび方法 | 2024年 7月11日 | |
特許 7514245 | 急速交互プロセスにおいて均一性を向上させるためのマルチロケーションガス注入 | 2024年 7月10日 | |
特許 7512279 | 多重ヒータアレイを備えた静電チャックのための長寿命かつ拡張温度範囲の埋め込みダイオード設計 | 2024年 7月 8日 | |
特許 7511486 | 径方向エッチング均一性の能動制御 | 2024年 7月 5日 | |
特許 7511570 | エッチングリアクタ用のターボ分子ポンプおよびカソードアセンブリ | 2024年 7月 5日 | |
特許 7510436 | 基板処理システムのためのモデルベースのスケジュール設定 | 2024年 7月 3日 | |
特許 7507146 | 高アスペクト比エッチングのための金属含有パシベーション | 2024年 6月27日 | |
特許 7507234 | 基板処理システムの処理チャンバの整合を改善するための流量計測較正 | 2024年 6月27日 | |
特許 7506461 | 基板における粒子低減用のパルスレーザ蒸着及び基板表面を有する基板用の装置 | 2024年 6月26日 | |
特許 7504977 | リソグラフィにおける確率的な歩留まりへの影響の排除 | 2024年 6月24日 | |
特許 7504240 | 基板を処理するための周波数同調と整合同調とを重複させずに適用するためのシステムおよび方法 | 2024年 6月21日 | |
特許 7502545 | 照射フォトレジストパターニングのための統合乾式プロセス | 2024年 6月18日 | |
特許 7498323 | 冷却ガス区画および対応する溝ならびに単極静電クランプ電極パターンを備える静電チャック | 2024年 6月11日 |
137 件中 61-75 件を表示
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7515647 7515661 7514913 7514245 7512279 7511486 7511570 7510436 7507146 7507234 7506461 7504977 7504240 7502545 7498323
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11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
12月2日(月) - 滋賀 草津市
新製品開発の「タネ」がみつかる!株式会社リコーによるシーズ発表会 ~リコーの技術(シーズ)やアイデアを使って新製品をつくりませんか?~
12月2日(月) -
12月4日(水) - 東京 千代田区
12月4日(水) - 東京 港区
12月4日(水) -
12月4日(水) - 大阪 大阪市
12月5日(木) - 東京 港区
12月5日(木) -
12月5日(木) -
12月5日(木) - 大阪 大阪市
【特別講演】第8回 前コミュ 生成AIでビジネスチャンスをつかむ前に、生成AI導入に待ち構える法的ハードルを越える方法 ~ つながりを育む出会いの場(知財ネットワーク交流会)~
12月6日(金) -
12月6日(金) - 愛知 豊橋市花田町
12月6日(金) -
12月2日(月) - 滋賀 草津市
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