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■ 2026年 出願公開件数ランキング 第195位 155件
(
2025年:第127位 267件)
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第177位 139件
(
2025年:第136位 217件)
(ランキング更新日:2026年10月28日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7875179 | 半導体製造装置のための予知保全 | 2026年 6月17日 | |
| 特許 7875212 | 処理ツールにおける統合型大気プラズマ処理ステーション | 2026年 6月17日 | |
| 特許 7872828 | プラズマ処理チャンバ用アルミニウム構成部品のための積層エアロゾル堆積被膜 | 2026年 6月10日 | |
| 特許 7871249 | 局所熱制御を備えた結合ヒータゾーンを含む多層構造を有する基板支持体 | 2026年 6月 8日 | |
| 特許 7870800 | プラズマ処理チャンバ構成要素のための表面コーティング | 2026年 6月 5日 | |
| 特許 7870140 | 3D NAND構造内にタングステンおよび他の金属を堆積させる方法 | 2026年 6月 4日 | |
| 特許 7868123 | 基板処理システムにおける不均一性のIN SITUリアルタイム感知および補償 | 2026年 6月 1日 | |
| 特許 7867050 | 高エッチング選択性かつ低応力のアッシャブルカーボンハードマスク | 2026年 5月28日 | |
| 特許 7864733 | 誘電率調節可能セラミック窓 | 2026年 5月25日 | |
| 特許 7864809 | 一体型ツール昇降機 | 2026年 5月25日 | |
| 特許 7863617 | 基板処理システムの遮蔽を強化する広被覆範囲のエッジリング | 2026年 5月21日 | |
| 特許 7863133 | 高アスペクト比構造をエッチングするためのシステムおよび方法 | 2026年 5月20日 | |
| 特許 7862311 | 反応性ガスのパルス送給 | 2026年 5月19日 | |
| 特許 7861105 | 対称的なRF戻り経路を提供するプロセスモジュールチャンバ | 2026年 5月18日 | |
| 特許 7859980 | フォトレジストを使用せずに金属特徴を形成するための電気流体力学吐出印刷および電気めっき | 2026年 5月15日 |
139 件中 61-75 件を表示
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7875179 7875212 7872828 7871249 7870800 7870140 7868123 7867050 7864733 7864809 7863617 7863133 7862311 7861105 7859980
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