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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第83位 467件
(2020年:第85位 444件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第72位 358件
(2020年:第86位 320件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6848760 | 冷却液用シール材 | 2021年 3月24日 | |
特許 6848767 | レジスト材料及びパターン形成方法 | 2021年 3月24日 | |
特許 6848776 | スルホニウム化合物、レジスト組成物、及びパターン形成方法 | 2021年 3月24日 | |
特許 6848825 | 光硬化性組成物およびその硬化物 | 2021年 3月24日 | |
特許 6848887 | 異方熱伝導性複合シリコーンゴムシート及びその製造方法 | 2021年 3月24日 | |
特許 6848904 | 透明セラミックスの製造方法、透明セラミックス並びに磁気光学デバイス | 2021年 3月24日 | |
特許 6848916 | シリコーン変性ポリイミド樹脂組成物 | 2021年 3月24日 | |
特許 6848987 | 凹凸補正化粧料 | 2021年 3月24日 | |
特許 6842404 | 粘着性基材の製造方法 | 2021年 3月17日 | |
特許 6842435 | ラジカル硬化性オルガノシロキサングラフトポリビニルアルコール系重合体及びその製造方法 | 2021年 3月17日 | |
特許 6843022 | 光硬化型組成物、ヒドロゲル、及びその成形品 | 2021年 3月17日 | |
特許 6844430 | 外周切断刃及びその製造方法 | 2021年 3月17日 | |
特許 6844443 | フォトリソグラフィ用ペリクル膜、ペリクル及びフォトマスク、露光方法並びに半導体デバイス又は液晶ディスプレイの製造方法 | 2021年 3月17日 | |
特許 6844506 | ポリシロキサンおよびその製造方法 | 2021年 3月17日 | |
特許 6844570 | シリコーンゴム−シリコーン変性ポリイミド樹脂積層体 | 2021年 3月17日 |
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6848760 6848767 6848776 6848825 6848887 6848904 6848916 6848987 6842404 6842435 6843022 6844430 6844443 6844506 6844570
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