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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第79位 375件
(2023年:第79位 394件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第78位 380件
(2023年:第71位 433件)
(ランキング更新日:2025年9月12日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7475794 | 封止用樹脂組成物及び半導体装置 | 2024年 4月30日 | |
特許 7475264 | 3-イソプロペニル-6-ヘプテナール化合物及び6-イソプロペニル-3-メチル-3,9-デカジエニル=カルボキシレート化合物の製造方法並びにその中間体 | 2024年 4月26日 | |
特許 7475389 | 積層基板、積層基板の製造方法及び自立基板の製造方法 | 2024年 4月26日 | |
特許 7474725 | 光アイソレータ | 2024年 4月25日 | |
特許 7472937 | 溶射材料 | 2024年 4月23日 | |
特許 7472994 | 常磁性ガーネット型透明セラミックス、磁気光学デバイス及び常磁性ガーネット型透明セラミックスの製造方法 | 2024年 4月23日 | |
特許 7472995 | 常磁性ガーネット型透明セラミックス、磁気光学デバイス及び常磁性ガーネット型透明セラミックスの製造方法 | 2024年 4月23日 | |
特許 7472996 | 常磁性ガーネット型透明セラミックス、磁気光学デバイス及び常磁性ガーネット型透明セラミックスの製造方法 | 2024年 4月23日 | |
特許 7473591 | 成膜装置及び成膜方法 | 2024年 4月23日 | |
特許 7472011 | 有機膜形成材料、パターン形成方法ならびに化合物及び重合体 | 2024年 4月22日 | |
特許 7470654 | 導電性高分子組成物、基板、及び基板の製造方法 | 2024年 4月18日 | |
特許 7470080 | (6Z,9Z)-6,9-ドデカジエン-1-イン及びその製造方法 | 2024年 4月17日 | |
特許 7467891 | オルガノポリシロキサンおよびそれを含有するコーティング用組成物 | 2024年 4月16日 | |
特許 7468295 | ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法 | 2024年 4月16日 | |
特許 7468399 | シリコーンコーティング剤組成物及び物品 | 2024年 4月16日 |
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7475794 7475264 7475389 7474725 7472937 7472994 7472995 7472996 7473591 7472011 7470654 7470080 7467891 7468295 7468399
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