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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第475位 70件
(2014年:第473位 74件)
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第385位 67件
(2014年:第336位 115件)
(ランキング更新日:2025年9月1日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5809419 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2015年11月10日 | |
特許 5805432 | 荷電粒子ビーム描画装置及び描画方法 | 2015年11月 4日 | |
特許 5802052 | 半導体製造装置及び半導体製造方法 | 2015年10月28日 | |
特許 5802069 | 気相成長方法及び気相成長装置 | 2015年10月28日 | |
特許 5797454 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2015年10月21日 | |
特許 5792513 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2015年10月14日 | |
特許 5793093 | 検査装置および検査方法 | 2015年10月14日 | |
特許 5794893 | 成膜方法および成膜装置 | 2015年10月14日 | |
特許 5788243 | 荷電粒子ビーム描画装置及びDACアンプの安定化方法 | 2015年 9月30日 | |
特許 5780936 | 検査装置 | 2015年 9月16日 | |
特許 5773637 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2015年 9月 2日 | |
特許 5773661 | 照明装置、パターン検査装置及び照明光の形成方法 | 2015年 9月 2日 | |
特許 5764364 | 半導体装置の製造方法、描画装置、プログラム及びパターン転写装置 | 2015年 8月19日 | |
特許 5767033 | 荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法 | 2015年 8月19日 | |
特許 5758325 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2015年 8月 5日 |
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5809419 5805432 5802052 5802069 5797454 5792513 5793093 5794893 5788243 5780936 5773637 5773661 5764364 5767033 5758325
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