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株式会社ニューフレアテクノロジー
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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第475位 70件
（
2014年：第473位 74件）
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第385位 67件
（2014年：第336位 115件）
（ランキング更新日：2025年12月5日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社ニューフレアテクノロジーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5757748 | 半導体製造装置および半導体製造方法 | 2015年 7月29日 | |
| 特許 5750328 | 気相成長方法及び気相成長装置 | 2015年 7月22日 | |
| 特許 5750339 | 気相成長方法及び気相成長装置 | 2015年 7月22日 | |
| 特許 5753461 | パターン検査装置及びパターン検査方法 | 2015年 7月22日 | |
| 特許 5753726 | 検査方法および検査装置 | 2015年 7月22日 | |
| 特許 5736113 | 露光用マスクの製造方法 | 2015年 6月17日 | |
| 特許 5736291 | 成膜装置および成膜方法 | 2015年 6月17日 | |
| 特許 5731257 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2015年 6月10日 | |
| 特許 5732284 | 成膜装置および成膜方法 | 2015年 6月10日 | |
| 特許 5719710 | 気相成長装置および気相成長方法 | 2015年 5月20日 | |
| 特許 5719720 | 薄膜処理方法 | 2015年 5月20日 | |
| 特許 5715856 | 荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法 | 2015年 5月13日 | |
| 特許 5709676 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2015年 4月30日 | |
| 特許 5702591 | 半導体製造装置および半導体製造方法 | 2015年 4月15日 | |
| 特許 5695924 | 欠陥推定装置および欠陥推定方法並びに検査装置および検査方法 | 2015年 4月 8日 |
67 件中 31-45 件を表示
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5757748 5750328 5750339 5753461 5753726 5736113 5736291 5731257 5732284 5719710 5719720 5715856 5709676 5702591 5695924
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