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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第475位 70件 (2014年:第473位 74件)
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第385位 67件 (2014年:第336位 115件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 5698043 | 半導体製造装置 | 2015年 4月 8日 | |
特許 5693981 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2015年 4月 1日 | |
特許 5687838 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2015年 3月25日 | |
特許 5688308 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2015年 3月25日 | |
特許 5684628 | パターン検査装置及びパターン検査方法 | 2015年 3月18日 | |
特許 5686829 | 荷電粒子ビーム描画方法および荷電粒子ビーム描画装置 | 2015年 3月18日 | |
特許 5687009 | 荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法 | 2015年 3月18日 | |
特許 5674866 | パターンデータ作成方法、マスク作成方法、半導体装置の製造方法、パターン作成方法及びプログラム | 2015年 2月25日 | |
特許 5676307 | パターン検査装置及びパターン検査方法 | 2015年 2月25日 | |
特許 5667848 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2015年 2月12日 | |
特許 5662749 | 半導体製造装置および半導体製造方法 | 2015年 2月 4日 | |
特許 5662756 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2015年 2月 4日 | |
特許 5662763 | ステージ装置およびこれを用いた電子ビーム描画装置 | 2015年 2月 4日 | |
特許 5662767 | インプリント・リソグラフィ用マスク | 2015年 2月 4日 | |
特許 5662790 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2015年 2月 4日 |
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5698043 5693981 5687838 5688308 5684628 5686829 5687009 5674866 5676307 5667848 5662749 5662756 5662763 5662767 5662790
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11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
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11月27日(水) -
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11月27日(水) -
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11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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