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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第354位 106件 (2015年:第475位 70件)
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第493位 56件 (2015年:第385位 67件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 5921990 | 欠陥検出方法 | 2016年 5月24日 | |
特許 5918478 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2016年 5月18日 | |
特許 5916657 | 半導体装置の製造方法及び露光用マスクへのパターン形成方法 | 2016年 5月11日 | |
特許 5905209 | 荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法 | 2016年 4月20日 | |
特許 5897888 | 荷電粒子ビーム描画装置 | 2016年 4月 6日 | |
特許 5894856 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2016年 3月30日 | |
特許 5896775 | 電子ビーム描画装置および電子ビーム描画方法 | 2016年 3月30日 | |
特許 5881972 | DACアンプの評価方法及び荷電粒子ビーム描画装置 | 2016年 3月 9日 | |
特許 5877679 | レチクルの支持機構および検査装置 | 2016年 3月 8日 | |
特許 5877702 | 成膜装置および成膜方法 | 2016年 3月 8日 | |
特許 5879234 | マスク描画装置、電子ビームの補正方法 | 2016年 3月 8日 | |
特許 5871557 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2016年 3月 1日 | |
特許 5871558 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2016年 3月 1日 | |
特許 5864334 | 荷電粒子ビーム描画装置、パターン検査装置及びレイアウト表示方法 | 2016年 2月17日 | |
特許 5865980 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2016年 2月17日 |
56 件中 31-45 件を表示
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5921990 5918478 5916657 5905209 5897888 5894856 5896775 5881972 5877679 5877702 5879234 5871557 5871558 5864334 5865980
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2月4日(火) - 東京 港区
2月4日(火) - 神奈川 川崎市
2月4日(火) -
2月4日(火) -
2月5日(水) - 東京 港区
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
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