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株式会社ニューフレアテクノロジー
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第354位 106件
（
2015年：第475位 70件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第493位 56件
（
2015年：第385位 67件）
（ランキング更新日：2025年2月7日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社ニューフレアテクノロジーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5859778 | マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 | 2016年 2月16日 | |
| 特許 5859951 | 荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法 | 2016年 2月16日 | |
| 特許 5860646 | 位置ずれマップ作成装置、パターン検査システム、及び位置ずれマップ作成方法 | 2016年 2月16日 | |
| 特許 5859039 | 検査装置 | 2016年 2月10日 | |
| 特許 5859263 | 荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法 | 2016年 2月10日 | |
| 特許 5855390 | 荷電粒子ビーム描画装置及びブランキングタイミングの調整方法 | 2016年 2月 9日 | |
| 特許 5855404 | 荷電粒子ビーム装置および荷電粒子ビーム描画装置 | 2016年 2月 9日 | |
| 特許 5851149 | 成膜装置および成膜方法 | 2016年 2月 3日 | |
| 特許 5848135 | 荷電粒子ビーム描画方法、荷電粒子ビーム描画プログラムおよび荷電粒子ビーム描画装置 | 2016年 1月27日 | |
| 特許 5841710 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2016年 1月13日 | |
| 特許 5841819 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2016年 1月13日 |
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5859778 5859951 5860646 5859039 5859263 5855390 5855404 5851149 5848135 5841710 5841819
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2月14日(金) - 東京 大田
＜エンジニア(技術者)および研究開発担当(R&D部門)向け＞ 基礎から学ぶ／自分で行うIPランドスケープ®の活用・実践 ＜東京会場受講（対面）／Zoomオンライン受講 選択可＞ ＜見逃し視聴選択可＞
2月14日(金) - 東京 千代田区
2月10日(月) -
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