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株式会社ニューフレアテクノロジー
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第340位 106件
（
2015年：第460位 70件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第493位 56件
（
2015年：第385位 67件）
（ランキング更新日：2026年10月30日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社ニューフレアテクノロジーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6013089 | 荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置 | 2016年10月25日 | |
| 特許 6000695 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2016年10月 5日 | |
| 特許 6000676 | 成膜装置および成膜方法 | 2016年10月 5日 | |
| 特許 5988486 | 成膜装置および成膜方法 | 2016年 9月 7日 | |
| 特許 5985852 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2016年 9月 6日 | |
| 特許 5977941 | マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 | 2016年 8月24日 | |
| 特許 5977629 | 荷電粒子ビームの偏向形状誤差取得方法及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2016年 8月24日 | |
| 特許 5977550 | マルチ荷電粒子ビーム描画装置 | 2016年 8月24日 | |
| 特許 5970213 | マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 | 2016年 8月17日 | |
| 特許 5970190 | 照明装置、および拡大観察装置 | 2016年 8月17日 | |
| 特許 5964107 | 半導体製造装置および半導体製造方法 | 2016年 8月 3日 | |
| 特許 5964067 | 荷電粒子ビーム描画装置 | 2016年 8月 3日 | |
| 特許 5956797 | マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 | 2016年 7月27日 | |
| 特許 5956217 | 荷電粒子ビーム描画装置、検査装置、及び描画データの検査方法 | 2016年 7月27日 | |
| 特許 5945222 | ドリフト補正方法および描画データの作成方法 | 2016年 7月 5日 |
56 件中 16-30 件を表示
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6013089 6000695 6000676 5988486 5985852 5977941 5977629 5977550 5970213 5970190 5964107 5964067 5956797 5956217 5945222
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