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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第433位 79件 (2019年:第387位 99件)
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第402位 64件 (2019年:第385位 68件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6682278 | マルチ荷電粒子ビーム露光方法及びマルチ荷電粒子ビーム露光装置 | 2020年 4月15日 | |
特許 6674327 | マルチ荷電粒子ビーム露光方法及びマルチ荷電粒子ビーム露光装置 | 2020年 4月 1日 | |
特許 6671911 | 位置ずれ検出装置、気相成長装置および位置ずれ検出方法 | 2020年 3月25日 | |
特許 6668199 | マスク検査方法 | 2020年 3月18日 | |
特許 6668206 | 成膜装置、および成膜方法 | 2020年 3月18日 | |
特許 6664993 | 成膜装置 | 2020年 3月13日 | |
特許 6665809 | マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びその調整方法 | 2020年 3月13日 | |
特許 6665818 | 荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置 | 2020年 3月13日 | |
特許 6662248 | 描画データの作成方法 | 2020年 3月11日 | |
特許 6653125 | マルチ荷電粒子ビーム描画方法及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置 | 2020年 2月26日 | |
特許 6649130 | パターン検査装置及びパターン検査方法 | 2020年 2月19日 | |
特許 6640040 | 伝熱板および描画装置 | 2020年 2月 5日 | |
特許 6640482 | パターン検査装置及びパターン検査方法 | 2020年 2月 5日 | |
特許 6640684 | 評価方法、補正方法、プログラム、及び電子線描画装置 | 2020年 2月 5日 | |
特許 6642092 | 検査装置及び検査方法 | 2020年 2月 5日 |
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6682278 6674327 6671911 6668199 6668206 6664993 6665809 6665818 6662248 6653125 6649130 6640040 6640482 6640684 6642092
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11月26日(火) - 東京 港区
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11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
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11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
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11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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