特許ランキング - 出願人詳細情報 -

株式会社ＳＵＭＣＯ

※ ログインすれば出願人(株式会社ＳＵＭＣＯ)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2021年出願公開件数ランキング　　　第360位　101件（2020年：第356位　104件）

　■　2021年特許取得件数ランキング　　　第298位　93件（2020年：第290位　95件）

（ランキング更新日：2024年11月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2022年 2023年 2024年

株式会社ＳＵＭＣＯの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2021-106207	シリコンウェーハの欠陥検査方法	2021年 7月26日
特開 2021-106208	シリコンウェーハの欠陥検査方法及びシリコンウェーハの欠陥検査システム	2021年 7月26日
特開 2021-106226	半導体ウェーハ用研磨布の使用開始時期の判定方法及びそれを用いた半導体ウェーハの研磨方法、並びに半導体ウェーハ研磨システム	2021年 7月26日
特開 2021-102526	シリコン単結晶の製造方法、シリコン単結晶	2021年 7月15日
特開 2021-103722	気相成長装置	2021年 7月15日
特開 2021-103740	研磨装置への半導体ウェーハの受け渡し方法および半導体ウェーハの製造方法	2021年 7月15日
特開 2021-103756	エピタキシャルウェーハ製造システム及び製造方法	2021年 7月15日
特開 2021-98244	研磨パッド圧着具及び研磨パッドの圧着方法	2021年 7月 1日
特開 2021-98621	シリコンインゴットへの中性子照射方法、シリコンインゴットの製造方法およびシリコンウェーハの製造方法	2021年 7月 1日
特開 2021-98622	単結晶シリコンインゴットの製造方法	2021年 7月 1日
特開 2021-98623	単結晶シリコンウェーハの酸化膜耐圧の評価方法	2021年 7月 1日
特開 2021-98629	単結晶育成方法および単結晶育成装置	2021年 7月 1日
特開 2021-100011	エピタキシャルシリコンウェーハの製造方法	2021年 7月 1日
特開 2021-100012	エピタキシャルシリコンウェーハ及びその製造方法並びにＸ線検出センサ	2021年 7月 1日
特開 2021-100013	多層ＳＯＩウェーハ及びその製造方法並びにＸ線検出センサ	2021年 7月 1日

101 件中 31-45 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2021-106207 2021-106208 2021-106226 2021-102526 2021-103722 2021-103740 2021-103756 2021-98244 2021-98621 2021-98622 2021-98623 2021-98629 2021-100011 2021-100012 2021-100013

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。株式会社ＳＵＭＣＯの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数