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株式会社ＳＵＭＣＯ

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株式会社ＳＵＭＣＯの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2021-42086	シリコン単結晶の育成方法およびシリコン単結晶の引き上げ装置	2021年 3月18日
特開 2021-42095	シリコン単結晶の製造方法	2021年 3月18日
特開 2021-42103	シリコン単結晶引上げ装置内の部材の再生方法及び再生装置並びに再生された部材を用いるシリコン単結晶の製造方法	2021年 3月18日
特開 2021-44327	半導体デバイス	2021年 3月18日
再表 2020-174598	シリコン融液の対流パターン制御方法、および、シリコン単結晶の製造方法	2021年 3月11日
特開 2021-39221	光モジュール及びその製造方法	2021年 3月11日
特開 2021-40006	単結晶シリコンの酸素濃度又は炭素濃度の測定方法	2021年 3月11日
特開 2021-40082	シリコン試料の前処理方法、シリコン試料の金属汚染評価方法、単結晶シリコンインゴット育成工程の評価方法、単結晶シリコンインゴットの製造方法およびシリコンウェーハの製造方法	2021年 3月11日
特開 2021-35899	シリコン単結晶の育成方法およびシリコン単結晶の引き上げ装置	2021年 3月 4日
特開 2021-35907	ｎ型シリコン単結晶の製造方法	2021年 3月 4日
特開 2021-36558	半導体試料の評価方法	2021年 3月 4日
特開 2021-28983	エピタキシャルシリコンウェーハ	2021年 2月25日
特開 2021-27243	レーザマークの印字方法およびレーザマーク付きシリコンウェーハの製造方法	2021年 2月22日
再表 2020-54811	ウェーハの鏡面面取り方法、ウェーハの製造方法、及びウェーハ	2021年 2月18日
特開 2021-20819	ヘテロエピタキシャルウェーハの製造方法及びヘテロエピタキシャルウェーハ	2021年 2月18日

101 件中 76-90 件を表示

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2021-42086 2021-42095 2021-42103 2021-44327 2020-174598 2021-39221 2021-40006 2021-40082 2021-35899 2021-35907 2021-36558 2021-28983 2021-27243 2020-54811 2021-20819

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