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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第138位 311件
(2019年:第141位 330件)
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第136位 210件
(2019年:第156位 176件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6772347 | 高温処理チャンバリッド | 2020年10月21日 | |
特許 6768087 | フレキシブル基板を被覆するための堆積装置、フレキシブル基板を被覆する方法、及び被覆を有するフレキシブル基板 | 2020年10月14日 | |
特許 6768713 | 誘電体被覆を有するバッテリセパレータ | 2020年10月14日 | |
特許 6768835 | 双ループサセプタ温度制御システム | 2020年10月14日 | |
特許 6765398 | ファクトリインターフェースの環境制御を伴う基板処理のシステム、装置、及び方法 | 2020年10月 7日 | |
特許 6766189 | キャリアを上げ又は下げるためのアセンブリ、真空チャンバ内でキャリアを搬送するための装置、及びキャリアを上げる又は下げるための方法 | 2020年10月 7日 | |
特許 6761807 | 高品質薄膜を形成するための周期的連続処理 | 2020年 9月30日 | |
特許 6762880 | 固体二酸化炭素粒子によるチャンバ部品の洗浄 | 2020年 9月30日 | |
特許 6763867 | パターニングのためのマスクエッチング | 2020年 9月30日 | |
特許 6757751 | タイムシフト型の曝露を使用する不均一パターンの補正 | 2020年 9月23日 | |
特許 6758353 | マスキングされたエッジを有する支持リング | 2020年 9月23日 | |
特許 6758414 | プラズマ処理チャンバ内のウエハキャリアのための高度な温度制御 | 2020年 9月23日 | |
特許 6758428 | 空間的ALD処理チャンバ内での堆積の均一性を高めるデバイス | 2020年 9月23日 | |
特許 6759214 | 低圧環境のためのランプドライバ | 2020年 9月23日 | |
特許 6759366 | 3DNAND用のトンネル酸化物の高圧でのアンモニア窒化 | 2020年 9月23日 |
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6772347 6768087 6768713 6768835 6765398 6766189 6761807 6762880 6763867 6757751 6758353 6758414 6758428 6759214 6759366
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