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■ 2025年 出願公開件数ランキング 第36位 390件
(2024年:第41位 605件)
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第33位 405件
(2024年:第47位 555件)
(ランキング更新日:2025年9月1日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7721863 | 逆選択性エッチング停止層 | 2025年 8月13日 | |
特許 7723074 | 薄膜層のパルス化プラズマ堆積 | 2025年 8月13日 | |
特許 7723114 | 半導体製造のための環境効率(持続可能性)ダッシュボード | 2025年 8月13日 | |
特許 7721644 | 堆積残留物制御のためのシステム及び方法 | 2025年 8月12日 | |
特許 7721819 | 統合型シャワーヘッド | 2025年 8月12日 | |
特許 7717845 | 改善されたプロセス均一性のための基板ハロー配置 | 2025年 8月 4日 | |
特許 7717893 | ディッシングおよび腐食を最小限に抑えるとともにパッドアスペリティを改善する低温金属CMP | 2025年 8月 4日 | |
特許 7716853 | フレキシブルディスプレイ用の交換可能なカバーレンズ | 2025年 8月 1日 | |
特許 7717294 | 基板製造中に膜堆積パラメータを調節するための方法および機構 | 2025年 8月 1日 | |
特許 7716486 | プロセスシフトが発生した場合に調整されたチャッキング電圧を使用してチャッキング動作を実行するための方法、システム、及び装置 | 2025年 7月31日 | |
特許 7716562 | 再帰的ガスチャネルを有するシャワーヘッドアセンブリ | 2025年 7月31日 | |
特許 7715772 | 半導体プロセスツールにおける静電気散逸用の超薄型共形コーティング | 2025年 7月30日 | |
特許 7715919 | 製造システムにおけるマルチレベルRFパルス監視およびRFパルス化パラメータ最適化 | 2025年 7月30日 | |
特許 7714600 | プラズマ処理中に基板における電圧波形を制御するためのシステム及び方法 | 2025年 7月29日 | |
特許 7714670 | 基板画像の処理に基づいたピクセルおよび領域の膜不均一分類 | 2025年 7月29日 |
405 件中 31-45 件を表示
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7721863 7723074 7723114 7721644 7721819 7717845 7717893 7716853 7717294 7716486 7716562 7715772 7715919 7714600 7714670
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