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■ 2026年 出願公開件数ランキング 第31位 551件
(
2025年:第42位 589件)
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第44位 405件
(
2025年:第35位 572件)
(ランキング更新日:2026年10月19日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7933850 | ブラインドビアをレーザ穿孔するための方法および装置 | 2026年10月13日 | |
| 特許 7933820 | デバイス製造における金属ハードマスクの形成のシステムおよび方法 | 2026年10月13日 | |
| 特許 7933756 | 光取り出し効率が改善された有機エレクトロルミネッセンスデバイス | 2026年10月13日 | |
| 特許 7933000 | 熱的に均一な堆積ステーション | 2026年10月 9日 | |
| 特許 7933003 | 共形のシリコンゲルマニウム膜堆積 | 2026年10月 9日 | |
| 特許 7933175 | パルス状電圧波形を制御するためのフィードバックループ | 2026年10月 9日 | |
| 特許 7933237 | CMOSデバイスにおけるキャビティ成形及び金属シリサイドの選択的形成 | 2026年10月 9日 | |
| 特許 7933225 | 等方的な窒化ケイ素の除去 | 2026年10月 9日 | |
| 特許 7933253 | 表面純度が上がったシリコンとゲルマニウムとを含有する材料の選択的エッチング | 2026年10月 9日 | |
| 特許 7932418 | LED転写材料およびプロセス | 2026年10月 8日 | |
| 特許 7932492 | 基板製造中にプロセスチャンバのパラメータを調整するための方法および機構 | 2026年10月 8日 | |
| 特許 7932611 | 機械学習による機器定数更新の判定 | 2026年10月 8日 | |
| 特許 7932599 | 画像解析によるエッジ欠陥検出 | 2026年10月 8日 | |
| 特許 7931729 | 周期的高電圧バイアスを用いたプラズマ化学気相堆積 | 2026年10月 7日 | |
| 特許 7931806 | PVDスパッタチャンバ向けのバイアス可能なフラックスオプティマイザ/コリメータ | 2026年10月 7日 |
405 件中 16-30 件を表示
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7933850 7933820 7933756 7933000 7933003 7933175 7933237 7933225 7933253 7932418 7932492 7932611 7932599 7931729 7931806
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