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信越半導体株式会社

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  2016年 出願公開件数ランキング    第339位 111件 下降2015年:第318位 124件)

  2016年 特許取得件数ランキング    第265位 122件 上昇2015年:第308位 89件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2016-82170 電極の形成方法及び電極構造 2016年 5月16日
特開 2016-82174 研磨装置及びウェーハの研磨方法 2016年 5月16日
特開 2016-74574 遮熱部材下端面と原料融液面との間の距離の測定方法及びシリコン単結晶の製造方法 2016年 5月12日
特開 2016-76583 半導体発光素子 2016年 5月12日
特開 2016-76662 シリコン単結晶ウェーハの評価方法 2016年 5月12日
特開 2016-68182 インゴットの切断方法 2016年 5月 9日
特開 2016-72267 貼り合わせウェーハの製造方法 2016年 5月 9日
特開 2016-72545 貼り合わせ不良部の検出方法及び検査システム 2016年 5月 9日
特開 2016-66692 SOIウェーハの製造方法 2016年 4月28日
特開 2016-66760 SOI基板の評価方法 2016年 4月28日
特開 2016-60667 抵抗率制御方法、追加ドーパント投入装置、並びに、n型シリコン単結晶 2016年 4月25日
特開 2016-55381 ラッピング方法 2016年 4月21日
特開 2016-56036 半導体単結晶棒の製造装置及び製造方法 2016年 4月21日
特開 2016-58420 エピタキシャル成長装置 2016年 4月21日
特開 2016-58480 半導体基板の製造方法 2016年 4月21日

114 件中 76-90 件を表示

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2016-82170 2016-82174 2016-74574 2016-76583 2016-76662 2016-68182 2016-72267 2016-72545 2016-66692 2016-66760 2016-60667 2016-55381 2016-56036 2016-58420 2016-58480

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