特許ランキング - 出願人詳細情報 -

信越半導体株式会社

※ ログインすれば出願人(信越半導体株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2020年出願公開件数ランキング　　　第459位　73件（2019年：第396位　96件）

　■　2020年特許取得件数ランキング　　　第364位　72件（2019年：第322位　84件）

（ランキング更新日：2025年6月10日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

信越半導体株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2020-102526	ウェーハの平坦度の評価方法及び評価装置	2020年 7月 2日
特開 2020-98104	シリコン基板中の不純物濃度の測定方法	2020年 6月25日
特開 2020-98839	窒化物半導体ウェーハの製造方法および窒化物半導体ウェーハ	2020年 6月25日
特開 2020-92169	シリコン単結晶基板中の窒素濃度評価方法	2020年 6月11日
特開 2020-85758	酸素濃度測定方法	2020年 6月 4日
特開 2020-87991	シリコンウェーハのエッチング方法、エッチング装置及び不純物分析方法	2020年 6月 4日
特開 2020-88059	ＳＯＩ基板の製造方法およびＳｉ薄膜の転写方法ならびにＳＩＭＯＸ基板	2020年 6月 4日
特開 2020-88261	炭素濃度測定方法	2020年 6月 4日
特開 2020-79181	単結晶の製造方法	2020年 5月28日
特開 2020-80385	貼り合わせＳＯＩウェーハの製造方法	2020年 5月28日
特開 2020-77662	パターンシフト測定方法	2020年 5月21日
特開 2020-77710	発光素子用半導体基板の製造方法及び発光素子の製造方法	2020年 5月21日
特開 2020-77711	半導体基板の評価方法	2020年 5月21日
特開 2020-72215	ウェーハ収納容器の洗浄方法およびその洗浄装置	2020年 5月 7日
特開 2020-61483	半導体シリコンウェーハの洗浄処理装置および洗浄方法	2020年 4月16日

73 件中 46-60 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2020-102526 2020-98104 2020-98839 2020-92169 2020-85758 2020-87991 2020-88059 2020-88261 2020-79181 2020-80385 2020-77662 2020-77710 2020-77711 2020-72215 2020-61483

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。信越半導体株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数