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カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第696位 45件
（
2018年：第645位 45件）
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第385位 68件
（2018年：第367位 75件）
（ランキング更新日：2025年4月15日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6502325 | 基板内に構造を生成するためのシステム | 2019年 4月17日 | |
| 特許 6502498 | 熱伝導部品を有する光学アセンブリ | 2019年 4月17日 | |
| 特許 6503326 | 光学アセンブリ、投影系、計測系、及びＥＵＶリソグラフィー装置 | 2019年 4月17日 | |
| 特許 6503368 | リソグラフィーシステムの少なくとも１つのミラーの傾斜角を測定する装置及び方法 | 2019年 4月17日 | |
| 特許 6498676 | ＥＵＶ投影リソグラフィのための照明光学ユニット | 2019年 4月10日 | |
| 特許 6498693 | マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明デバイスのためのＥＵＶ光源 | 2019年 4月10日 | |
| 特許 6499658 | マイクロミラーアレイ | 2019年 4月10日 | |
| 特許 6493584 | ＥＵＶ投影リソグラフィのための照明光学ユニット | 2019年 4月 3日 | |
| 特許 6489374 | 結像光学系及び投影露光装置 | 2019年 3月27日 | |
| 特許 6489769 | ＥＵＶ波長帯斜入射用反射光学素子 | 2019年 3月27日 | |
| 特許 6485921 | コレクター | 2019年 3月20日 | |
| 特許 6487424 | マイクロリソグラフィ投影露光システムのミラー及びミラーを加工する方法 | 2019年 3月20日 | |
| 特許 6487908 | 光学装置、特にプラズマ光源またはＥＵＶリソグラフィ装置 | 2019年 3月20日 | |
| 特許 6481149 | 調整機能を最適化した投影露光装置 | 2019年 3月13日 | |
| 特許 6482137 | フォトリソグラフィマスクの基板上のアラインメントマークの基準点の自動決定のための方法及びデバイス | 2019年 3月13日 |
69 件中 46-60 件を表示
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6502325 6502498 6503326 6503368 6498676 6498693 6499658 6493584 6489374 6489769 6485921 6487424 6487908 6481149 6482137
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