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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第444位 78件 (2015年:第473位 71件)
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第483位 58件 (2015年:第1019位 20件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 5963774 | 進歩したウェーハ表面ナノトポグラフィのためのオブジェクトに基づく計測方法及びシステム | 2016年 8月 3日 | |
特許 5964337 | プロセス条件測定機器およびその方法 | 2016年 8月 3日 | |
特許 5965467 | 検査データと組み合わせて設計データを使用するための方法及びシステム | 2016年 8月 3日 | |
特許 5959648 | プロセス認識メトロロジー | 2016年 8月 2日 | |
特許 5961595 | 統合化されたプロセス条件検知用ウェハおよびデータ解析システム | 2016年 8月 2日 | |
特許 5932723 | 検査データと組み合わせて設計データを使用するための方法及びシステム | 2016年 6月 8日 | |
特許 5925199 | ウェーハ検査または計測設定のためのデータ擾乱 | 2016年 5月25日 | |
特許 5921541 | 半導体装置レシピ管理方法 | 2016年 5月24日 | |
特許 5919233 | デザイナ・インテント・データを使用するウェハとレチクルの検査の方法およびシステム | 2016年 5月18日 | |
特許 5916738 | サブサンプリング方式を使用して装置起因の誤差を提供する方法およびシステム | 2016年 5月11日 | |
特許 5911489 | プロセスツール修正値を提供するための方法およびシステム | 2016年 4月27日 | |
特許 5905009 | リソグラフィ上重大な汚染フォトマスク欠陥のウェハ面検出 | 2016年 4月20日 | |
特許 5905430 | 広帯域顕微鏡用カタジオプトリック結像系 | 2016年 4月20日 | |
特許 5905466 | モデルベースの細線手法を用いるレチクルの欠陥検査 | 2016年 4月20日 | |
特許 5906490 | 自動材料ハンドリングシステムの材料加工の間における処理量低減装置及び方法 | 2016年 4月20日 |
58 件中 31-45 件を表示
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5963774 5964337 5965467 5959648 5961595 5932723 5925199 5921541 5919233 5916738 5911489 5905009 5905430 5905466 5906490
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12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月29日(金) - 東京 港区
12月2日(月) - 滋賀 草津市
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12月2日(月) -
12月4日(水) - 東京 千代田区
12月4日(水) - 東京 港区
12月4日(水) -
12月4日(水) - 大阪 大阪市
12月4日(水) -
12月4日(水) -
12月5日(木) - 東京 港区
12月5日(木) -
12月5日(木) -
12月5日(木) - 大阪 大阪市
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12月6日(金) -
12月6日(金) - 愛知 豊橋市花田町
12月6日(金) -
12月2日(月) - 滋賀 草津市
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