特許ランキング - 出願人詳細情報 -

ケーエルエー−テンカー　コーポレイション

※ ログインすれば出願人(ケーエルエー−テンカー　コーポレイション)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2016年出願公開件数ランキング　　　第444位　78件（2015年：第473位　71件）

　■　2016年特許取得件数ランキング　　　第483位　58件（2015年：第1019位　20件）

（ランキング更新日：2025年10月15日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

ケーエルエー−テンカー　コーポレイションの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 5963774	進歩したウェーハ表面ナノトポグラフィのためのオブジェクトに基づく計測方法及びシステム	2016年 8月 3日
特許 5964337	プロセス条件測定機器およびその方法	2016年 8月 3日
特許 5965467	検査データと組み合わせて設計データを使用するための方法及びシステム	2016年 8月 3日
特許 5959648	プロセス認識メトロロジー	2016年 8月 2日
特許 5961595	統合化されたプロセス条件検知用ウェハおよびデータ解析システム	2016年 8月 2日
特許 5932723	検査データと組み合わせて設計データを使用するための方法及びシステム	2016年 6月 8日
特許 5925199	ウェーハ検査または計測設定のためのデータ擾乱	2016年 5月25日
特許 5921541	半導体装置レシピ管理方法	2016年 5月24日
特許 5919233	デザイナ・インテント・データを使用するウェハとレチクルの検査の方法およびシステム	2016年 5月18日
特許 5916738	サブサンプリング方式を使用して装置起因の誤差を提供する方法およびシステム	2016年 5月11日
特許 5911489	プロセスツール修正値を提供するための方法およびシステム	2016年 4月27日
特許 5905009	リソグラフィ上重大な汚染フォトマスク欠陥のウェハ面検出	2016年 4月20日
特許 5905430	広帯域顕微鏡用カタジオプトリック結像系	2016年 4月20日
特許 5905466	モデルベースの細線手法を用いるレチクルの欠陥検査	2016年 4月20日
特許 5906490	自動材料ハンドリングシステムの材料加工の間における処理量低減装置及び方法	2016年 4月20日

58 件中 31-45 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

5963774 5964337 5965467 5959648 5961595 5932723 5925199 5921541 5919233 5916738 5911489 5905009 5905430 5905466 5906490

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。ケーエルエー−テンカー　コーポレイションの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数