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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第431位 78件
(
2015年:第454位 71件)
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第482位 58件
(
2015年:第1019位 20件)
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6023116 | 検査データと組み合わせて設計データを使用するための方法 | 2016年11月 9日 | |
| 特許 6019042 | レーザ液滴プラズマ照明器による光学結像システム | 2016年11月 2日 | |
| 特許 6013380 | 半導体ウェーハのリアルタイム三次元SEM画像化およびビューイングのための装置および方法 | 2016年10月25日 | |
| 特許 6012627 | 表面計測ツールにおける改善された局部的特徴定量化のための方法及びシステム | 2016年10月25日 | |
| 特許 6010042 | ウェーハ検査 | 2016年10月19日 | |
| 特許 6007110 | ウェーハ縁部(エッジ)特徴の検出および定量化のためのシステムおよび方法 | 2016年10月12日 | |
| 特許 6000362 | 非線形光学結晶の水素不活性化 | 2016年 9月28日 | |
| 特許 6000338 | 基板状の計測デバイス用熱遮蔽モジュール | 2016年 9月28日 | |
| 特許 6000288 | 反射性リソグラフィマスクブランクを検査し、マスク品質を向上させるための方法および装置 | 2016年 9月28日 | |
| 特許 6000247 | 計測のための光学的対称化 | 2016年 9月28日 | |
| 特許 5991960 | 半導体における周期構造の実時間分析 | 2016年 9月14日 | |
| 特許 5980237 | 設計ベースデバイスリスク評価 | 2016年 8月31日 | |
| 特許 5980828 | 半導体製造プロセスのための方法とシステム | 2016年 8月31日 | |
| 特許 5980822 | 表面検査を行う方法 | 2016年 8月31日 | |
| 特許 5969511 | 広い処理範囲の計測用ライブラリ | 2016年 8月17日 |
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6023116 6019042 6013380 6012627 6010042 6007110 6000362 6000338 6000288 6000247 5991960 5980237 5980828 5980822 5969511
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