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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第444位 78件
(2015年:第473位 71件)
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第483位 58件
(2015年:第1019位 20件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6023209 | 高輝度発光ダイオードのための高スループット高温試験方法およびシステム | 2016年11月 9日 | |
特許 6019042 | レーザ液滴プラズマ照明器による光学結像システム | 2016年11月 2日 | |
特許 6012627 | 表面計測ツールにおける改善された局部的特徴定量化のための方法及びシステム | 2016年10月25日 | |
特許 6013380 | 半導体ウェーハのリアルタイム三次元SEM画像化およびビューイングのための装置および方法 | 2016年10月25日 | |
特許 6010042 | ウェーハ検査 | 2016年10月19日 | |
特許 6007110 | ウェーハ縁部(エッジ)特徴の検出および定量化のためのシステムおよび方法 | 2016年10月12日 | |
特許 6000247 | 計測のための光学的対称化 | 2016年 9月28日 | |
特許 6000288 | 反射性リソグラフィマスクブランクを検査し、マスク品質を向上させるための方法および装置 | 2016年 9月28日 | |
特許 6000338 | 基板状の計測デバイス用熱遮蔽モジュール | 2016年 9月28日 | |
特許 6000362 | 非線形光学結晶の水素不活性化 | 2016年 9月28日 | |
特許 5991960 | 半導体における周期構造の実時間分析 | 2016年 9月14日 | |
特許 5980237 | 設計ベースデバイスリスク評価 | 2016年 8月31日 | |
特許 5980822 | 表面検査を行う方法 | 2016年 8月31日 | |
特許 5980828 | 半導体製造プロセスのための方法とシステム | 2016年 8月31日 | |
特許 5969511 | 広い処理範囲の計測用ライブラリ | 2016年 8月17日 |
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6023209 6019042 6012627 6013380 6010042 6007110 6000247 6000288 6000338 6000362 5991960 5980237 5980822 5980828 5969511
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契約の「基礎」から分かる!! 秘密保持契約と共同開発契約のポイント ~ ケーススタディを通じて契約締結交渉の実践力も養う ~
5月27日(火) - 東京 港区
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