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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第364位 101件
(2019年:第411位 92件)
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第314位 86件
(2019年:第331位 81件)
(ランキング更新日:2025年2月14日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6678233 | スポットの2Dアレイによる斜め入射走査のシステムおよび方法 | 2020年 4月 8日 | |
特許 6674909 | インライン型のウェハエッジ検査、ウェハプレアラインメント、及びウェハ洗浄 | 2020年 4月 1日 | |
特許 6671358 | 183nmのレーザーおよび検査システム | 2020年 3月25日 | |
特許 6671426 | 欠陥特定情報を用いるウェハ上の欠陥の検出 | 2020年 3月25日 | |
特許 6668262 | 自動的なレシピ安定性の監視および報告 | 2020年 3月18日 | |
特許 6668408 | SEMオーバーレイ計測のシステムおよび方法 | 2020年 3月18日 | |
特許 6668533 | 散乱計測を用いてオーバレイ誤差を検出する装置および方法 | 2020年 3月18日 | |
特許 6669669 | 近接場リカバリを利用するレチクル検査 | 2020年 3月18日 | |
特許 6669923 | 出力パルス光の生成方法 | 2020年 3月18日 | |
特許 6663865 | ミラーおよび/またはプリズムを用いたレーザ繰返し周波数逓倍器およびフラットトップビームプロファイル生成器 | 2020年 3月13日 | |
特許 6664402 | レーザ維持プラズマ光源の放射性輻射を阻害するシステム及び方法 | 2020年 3月13日 | |
特許 6661602 | 多重モードを備えた検査システム及び方法 | 2020年 3月11日 | |
特許 6657175 | 高解像度且つ高量子効率の電子衝撃CCDまたはCMOS撮像センサ | 2020年 3月 4日 | |
特許 6652511 | ウェハ検査中に集光アパーチャ内に位置付けられる光学要素の構成の決定 | 2020年 2月26日 | |
特許 6653314 | 検査サイトの準備 | 2020年 2月26日 |
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6678233 6674909 6671358 6671426 6668262 6668408 6668533 6669669 6669923 6663865 6664402 6661602 6657175 6652511 6653314
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2月25日(火) -
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