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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第424位 82件
(
2020年:第364位 101件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第239位 120件
(
2020年:第314位 86件)
(ランキング更新日:2025年10月29日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6931084 | 光学検査結果に発する計量案内型検査サンプルシェイピング | 2021年 9月 1日 | |
| 特許 6924261 | パターニングされたウェハの特性評価のためのハイブリッド計量 | 2021年 8月25日 | |
| 特許 6920357 | 高温プロセスアプリケーションにおいて測定パラメータを取得するためのカプセル化された計装基板装置 | 2021年 8月18日 | |
| 特許 6920518 | 走査電子顕微鏡検査装置及び方法 | 2021年 8月18日 | |
| 特許 6921108 | 高輝度レーザ維持プラズマ広帯域輻射源 | 2021年 8月18日 | |
| 特許 6921173 | 光源持続プラズマセルにおける収差を補正するための装置及び方法 | 2021年 8月18日 | |
| 特許 6921852 | 広帯域光源のスペクトルチューニングシステム及び方法 | 2021年 8月18日 | |
| 特許 6916877 | 貼り合わせウエハの計測 | 2021年 8月11日 | |
| 特許 6916886 | 分光組成分析のためのウェハ粒子欠陥の活性化 | 2021年 8月11日 | |
| 特許 6916937 | 光維持プラズマ形成によって広帯域光を生成する光学システム | 2021年 8月11日 | |
| 特許 6917462 | ウェハ形状測定方法及びシステム | 2021年 8月11日 | |
| 特許 6917992 | 傾斜吸収フィーチャを有するレーザ維持プラズマ光源 | 2021年 8月11日 | |
| 特許 6918931 | 半導体ウエハ検査のための欠陥マーキング | 2021年 8月11日 | |
| 特許 6912495 | デュアルカラムパラレルCCDセンサおよびセンサを用いた検査システム | 2021年 8月 4日 | |
| 特許 6914249 | 自発的計測法及びパターン分類 | 2021年 8月 4日 |
120 件中 31-45 件を表示
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6931084 6924261 6920357 6920518 6921108 6921173 6921852 6916877 6916886 6916937 6917462 6917992 6918931 6912495 6914249
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10月29日(水) - 東京 港区
10月29日(水) -
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10月30日(木) -
10月30日(木) -
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10月31日(金) -
10月31日(金) -
10月31日(金) -
10月29日(水) - 東京 港区
11月4日(火) -
11月4日(火) - 大阪 大阪市
11月5日(水) -
11月5日(水) -
11月6日(木) - 東京 港区
11月6日(木) - 大阪 大阪市
11月6日(木) - 大阪 大阪市
11月7日(金) -
11月7日(金) -
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