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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第424位 82件
(2020年:第364位 101件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第239位 120件
(2020年:第314位 86件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6846525 | 183nmCWレーザ及び検査システム | 2021年 3月24日 | |
特許 6846550 | 電子ビーム画像化装置及び方法 | 2021年 3月24日 | |
特許 6847129 | レーザ維持プラズマ光源のVUV輻射性放射を阻害するシステム及び方法 | 2021年 3月24日 | |
特許 6847663 | ウェハ検査のためのロジックの中のパターン抑制 | 2021年 3月24日 | |
特許 6848045 | 一体化パージガス予熱器を有する光学部品用オーブン筐体 | 2021年 3月24日 | |
特許 6843160 | パターン配置及びパターンサイズ計測装置及び方法、並びにそのためのコンピュータプログラム | 2021年 3月17日 | |
特許 6843764 | 計測ターゲット設計の方法、計測モジュール、及び計測ターゲットの製造方法 | 2021年 3月17日 | |
特許 6845327 | 畳み込み式ニューラルネットワークに基づく欠陥検査のためのデータ増強 | 2021年 3月17日 | |
特許 6840129 | ウエハレベル欠陥の転写性を予測する装置および方法 | 2021年 3月10日 | |
特許 6840224 | 大粒子監視及びレーザパワー制御を伴う表面欠陥検査 | 2021年 3月10日 | |
特許 6832957 | 欠陥検査用レシピ選択方法及びシステム | 2021年 2月24日 | |
特許 6833027 | 検査関連アルゴリズムのセットアップに用いられる訓練集合の最適化 | 2021年 2月24日 | |
特許 6833822 | 画像を用いたモデル依拠計量 | 2021年 2月24日 | |
特許 6830478 | 半導体ウエハ検査のためのイメージング性能を最適化する方法 | 2021年 2月17日 | |
特許 6830492 | 分光ビームプロファイルオーバーレイ計測 | 2021年 2月17日 |
120 件中 91-105 件を表示
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6846525 6846550 6847129 6847663 6848045 6843160 6843764 6845327 6840129 6840224 6832957 6833027 6833822 6830478 6830492
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2月22日(土) - 東京 板橋区
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2月25日(火) -
2月25日(火) -
2月26日(水) -
2月26日(水) -
2月26日(水) - 東京 港区
2月26日(水) -
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2月27日(木) -
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
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2月25日(火) -
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