ホーム > 特許ランキング > ケーエルエー−テンカー コーポレイション > 2021年 > 特許一覧
※ ログインすれば出願人(ケーエルエー−テンカー コーポレイション)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2021年 出願公開件数ランキング 第424位 82件
(2020年:第364位 101件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第239位 120件
(2020年:第314位 86件)
(ランキング更新日:2025年2月21日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2022年 2023年 2024年 2025年
公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6879939 | オーバレイ計測用トポグラフィック位相制御 | 2021年 6月 2日 | |
特許 6879950 | 出力スケーリング可能な非線形光波長コンバータ | 2021年 6月 2日 | |
特許 6882209 | 半導体ウェハ上の高さを測定するための方法および装置 | 2021年 6月 2日 | |
特許 6875483 | 計測標的の偏光測定及び対応する標的設計 | 2021年 5月26日 | |
特許 6876055 | マルチビーム走査型電子顕微鏡におけるノイズ緩和方法及びシステム | 2021年 5月26日 | |
特許 6876721 | 半導体構造体の気孔率測定 | 2021年 5月26日 | |
特許 6876754 | ウェハ検査システム | 2021年 5月26日 | |
特許 6877462 | チューナビリティ用非磁性金属部分が組み込まれた永久磁石粒子ビーム装置及び方法 | 2021年 5月26日 | |
特許 6877541 | 一体型メトロロジツールを有する機能性が強化されたリソグラフィシステム | 2021年 5月26日 | |
特許 6878553 | 半導体ウェハ検査及び計量システム及び方法 | 2021年 5月26日 | |
特許 6873129 | 領域適応的欠陥検出を行うシステムおよび方法 | 2021年 5月19日 | |
特許 6869944 | レーザ暗視野システムにおけるスペックル抑圧方法及び装置 | 2021年 5月12日 | |
特許 6870129 | 試料の欠陥検出及び光ルミネセンス測定のためのシステム及び方法 | 2021年 5月12日 | |
特許 6864695 | デザインファイルまたは検査画像を用いた自動デスキュー | 2021年 4月28日 | |
特許 6864717 | レーザー維持プラズマ光源向けプラズマ・セル | 2021年 4月28日 |
120 件中 61-75 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
6879939 6879950 6882209 6875483 6876055 6876721 6876754 6877462 6877541 6878553 6873129 6869944 6870129 6864695 6864717
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。ケーエルエー−テンカー コーポレイションの知財の動向チェックに便利です。
2月22日(土) - 東京 板橋区
2月22日(土) - 東京 板橋区
2月25日(火) -
2月25日(火) -
2月26日(水) -
2月26日(水) -
2月26日(水) - 東京 港区
2月26日(水) -
2月26日(水) - 千葉 船橋市
2月27日(木) -
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
愛知県名古屋市中区栄3-2-3 名古屋日興證券ビル4階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
埼玉県久喜市久喜東6-2-46 パレ・ドール久喜2-203 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒243-0021 神奈川県厚木市岡田3050 厚木アクストメインタワー3階B-1 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング