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株式会社日立ハイテクノロジーズ
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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第138位 386件
（
2016年：第182位 243件）
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第90位 339件
（
2016年：第89位 360件）
（ランキング更新日：2025年8月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社日立ハイテクノロジーズの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6200514 | 電子顕微鏡 | 2017年 9月20日 | |
| 特許 6200849 | プラズマ処理装置およびドライエッチング方法 | 2017年 9月20日 | |
| 特許 6196831 | 高電圧発生装置、及びそれを用いた荷電粒子線装置 | 2017年 9月13日 | |
| 特許 6196878 | 電子顕微鏡 | 2017年 9月13日 | |
| 特許 6193004 | 吸着材及びそれを用いた分析システム | 2017年 9月 6日 | |
| 特許 6193126 | 試験管搬送用ホルダー | 2017年 9月 6日 | |
| 特許 6193776 | 走査荷電粒子顕微鏡画像の高画質化方法および走査荷電粒子顕微鏡装置 | 2017年 9月 6日 | |
| 特許 6188581 | 自動分析装置の調整システム、及び自動分析装置の調整方法 | 2017年 8月30日 | |
| 特許 6190768 | 電子顕微鏡装置およびそれを用いた撮像方法 | 2017年 8月30日 | |
| 特許 6184793 | 荷電粒子線装置 | 2017年 8月23日 | |
| 特許 6184838 | 半導体製造方法 | 2017年 8月23日 | |
| 特許 6185065 | 陰イオンセンサ | 2017年 8月23日 | |
| 特許 6185151 | 分析装置 | 2017年 8月23日 | |
| 特許 6186152 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 | 2017年 8月23日 | |
| 特許 6186210 | ステージ装置およびそれを用いた荷電粒子線装置 | 2017年 8月23日 |
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6200514 6200849 6196831 6196878 6193004 6193126 6193776 6188581 6190768 6184793 6184838 6185065 6185151 6186152 6186210
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